二次電子像主要是反映樣品表面10nm左右的形貌特征，像的襯度是形貌襯度，襯度的形成主要取于樣品表面相對于入射電子束的傾角。如果樣品表面光滑平整（無形貌特征），則不形成襯度；而對于表面有一定形貌的樣品，其形貌可看成由許多不同傾斜程度的面構成的凸尖、臺階、凹坑等細節組成，這些細節的不同部位發射的二次電子數不同，從而產生襯度。二次電子像分辨率高、無明顯陰影效應、場深大、立體感強，是掃描電鏡的主要成像方式（特別適用于粗糙樣品表面的形貌觀察），在材料及生命科學等領域有著廣泛的應用。
