這是傳統的刻蝕方法。把硅片浸泡在一定的化學試劑或試劑溶液中，使沒有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜表面與試劑發生化學反應而被除去。例如,用一種含有氫氟酸的溶液刻蝕二氧化硅薄膜，用磷酸刻蝕鋁薄膜等。這種在液態環境中進行刻蝕的方法稱為“濕法”刻蝕。它的優點操作簡便；對設備要求低；易于實現大批量生產；刻蝕的選擇性好。化學反應的各向異性較差，橫向鉆蝕使所得的刻蝕剖面呈圓弧形，很難做到精確控制圖形。濕法刻蝕的另一問題，是抗蝕劑在溶液中，特別在較高溫度的溶液中易受破壞而使掩蔽失效，因而對于那些只能在這種條件下刻蝕的薄膜必須采用更為復雜的掩蔽方案。