光學顯微鏡微分干涉相襯法成像光路系統的調整方法介紹

　　為了克服相差法觀察時樣品細節像周圍伴隨有光暈，會掩沒掉本來應該看見的細節，以及樣品或組織切片厚度要求相當薄，原則上下能厚于10m等局限性，利用雙光束干涉的原理設計光學顯微鏡微分干涉相襯法成像光路系統的調整方法。

　　一、調整方法：

　　a. 必須在庫勒明系統已調好的基礎上才能調好DIC；

　　b. 先用10×物鏡，以明視野先確定好能把樣品看清晰的物鏡調焦位置；

　　c. 把起偏器（polarizer）擺入照明光路中，注意其取向應為東–西方向；

　　d. 把聚光鏡轉盤轉到與10×物鏡對應使用的位置上，即DIC 0.3–0.4；

　　e. 在物鏡后方或物鏡轉換器上插入10×物鏡使用的DIC插片（DIC slider）；

　　f. 把檢偏器（analyser）插入成像光路中，注意其取向應為南–北方；

　　g. 換上待觀察的透明樣品，開亮光源把樣品調焦清晰；

　　h. 調節DIC插片，使微分干涉相襯的像達到最佳效果，也就是浮雕效果最為明顯；

　　i. 同時可調節聚光鏡的孔徑光闌，使反差的效果也達到最佳；

　　j. 然后再細微調樣品的細節，可見樣品中不同層面上的結構；

　　k. 如果把補色器（first order red retardation plate）插入，并同時調節DIC插片，可在視野中看到不斷變化的絢麗色彩，紅、橙、黃、綠、藍、紫、粉紅、粉紫及金黃色都具有。

　　二、適用范圍：透明或不能染色的組織切片，厚度可達100μm左右，培養中的活組織和活細胞、小生生物等。