翻譯后修飾（PTM）是指蛋白質在翻譯后發生的化學修飾。抗體在生產、貯存及臨床使用過程中，均可能產生各類翻譯后修飾變異體。翻譯后修飾可能導致抗體所帶的電荷乃至結構發生變化，從而影響其與抗原及Fc受體的親和力，進而影響抗體藥物的活性等關鍵質量屬性。因此，對抗體藥物的各類翻譯后修飾進行表征和工藝控制是有必要的。本文以抗體藥物常見的糖基化修飾、天冬酰胺脫氨基修飾和天冬氨酸異構化修飾、氧化修飾、C-末端賴氨酸缺失修飾、N-末端焦谷氨酸環化修飾等為例對各類翻譯后修飾做簡要介紹。
糖基化修飾
氧化修飾
天冬酰胺脫氨基修飾和天冬氨酸異構化修飾
C-末端賴氨酸缺失修飾
人IgG抗體重鏈的C-末端多以-Pro-Gly-Lys結尾，在抗體生物合成及分泌過程中，C-末端賴氨酸會被細胞內外的羧肽酶綜合作用而切除，但這種切除作用并不是完全的，從而出現賴氨酸殘留的情況。C-末端賴氨酸變體是導致抗體電荷異質性的主要原因。不同數目的賴氨酸殘留使抗體帶有不同的凈電荷，這種因賴氨酸切除導致的電荷差異而形成的變體稱為賴氨酸變體。
單克隆抗體大規模生產時，賴氨酸變體應控制在合理范圍內，并評估是否需作為在產品放行、穩定性試驗和工藝改變時的一項檢測指標。
N-末端焦谷氨酸環化修飾
參考文獻
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