該技術基本原理是大分子流過扁平通道，同時受到水平（channel flow）和垂直方向（cross flow）的流場作用；尺寸相對小的分子，受垂直方向的作用力較小，而向扁平通道中心平移擴散；而尺寸相對較大的分子，受垂直方向的作用力較大而更靠近聚集壁（accumulated wall）。從而在垂直方向形成尺寸（size）梯度。而流體在扁平通道內，越靠近中心，流速越快，而越靠近邊緣，流速越均勻和越緩慢。因此，尺寸相對較小的組分先被后端檢測器檢測到；而較大尺寸的組分隨后被檢測。從而達到分離的目的。因無固定相，且系統壓力相對較低，相比傳統SEC/GPC技術，該技術具備低剪切或無剪切效應，無需擔心與填料間相互作用，從而避免了SEC/GPC存在的剪切與吸附填料的問題。
早期扁平通道上方開孔，稱之為對稱性場流；后來技術的變化，扁平通道上方密閉，僅下方開孔，稱之為非對稱性場流。