| 儀器名稱： | 多靶位磁控濺射系統 |
| 儀器編號： | 21012328 |
| 產地： | 美國 |
| 生產廠家： | 科特·萊斯科公司 |
| 型號： | PVD75 |
| 出廠日期： | |
| 購置日期： | 2021-07-12 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺 |
| 固定電話： | 62781090 |
| 固定手機： | 13661079620 |
| 固定email： | douwz@tsinghua.edu.cn |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 微納加工 半導體工藝 磁控濺射 材料制備 |
| 技術指標： | 工藝腔配備冷泵，本底真空：10e-8 torr；成膜均勻性<3%；同時裝載5個靶位；全自動傳送片系統 |
| 知名用戶： | 錢鶴教授，吳華強教授，陳煒教授，劉澤文教授。 |
| 技術團隊： | 竇維治、韓冰、魏治乾 |
| 功能特色： | 該設備的特點如下：本底真空可達到10E-8Torr量級；基片溫度可以控制在室溫~800℃；可實現6英寸及以下尺寸的硅片的濺射鍍膜；濺射鍍膜的粘附性好，片內均勻性能夠達到3%以下；可對多種材料進行濺射，與Lab18薄膜沉積系統靶材通用，目前主要有金屬、氧化物和氮化物薄膜，包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、IGZO、V2O5、TiN、W等 |
樣品要求：
6英寸以下樣品
預約說明：
實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則
取消預約需提前2個小時通過網上取消預約
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 自助上機機時費 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 450.0 |