配位掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化還原掩蔽法.配位掩蔽法，當溶液中存在其他金屬離子N時，由于N與Y發生副反應，降低了條件穩定常數,給M離子滴定帶來誤差。加上N離子還可能對指示劑有封閉作用。這時可采用配位掩蔽法，就是通過加入掩蔽劑，使掩蔽劑與干擾離子形成穩定配合物，降低溶液中游離N的濃度，從而減小，增大而使M可以單獨滴定。沉淀掩蔽法，就是加入沉淀劑，使干擾離子產生沉淀而降低N離子濃度。如在強堿溶液中用EDTA滴定Ca（有Mg干擾），強堿與Mg形成Mg(OH)↓，這樣Mg就不干擾Ca的測定。氧化還原掩蔽法，就是利用氧化還原反應改變干擾離子的價態以消除干擾。例如Fe是一強的封閉劑，加入還原劑使溶液中Fe還原成Fe，可達到掩蔽作用。在實際應用中最常用的還是配位掩蔽法。氧化還原掩蔽法是指在EDTA滴定過程中加入氧化劑或還原劑，改變干擾離子價態以消除干擾的方式。 例如： Bi3+ 和 Fe3+ 共存時，測定Bi3+ 時Fe3+ 有干擾，可加抗壞血酸（維生素C）將Fe3+ 還原為Fe2+ ，大大降低了鐵離子和EDTA配合物的穩定性，從而消除Fe3+ 對Bi3+ 測定的干擾。