日本國立材料研究所MichikoYOSHITAKE訪問新能源所

　　應新能源技術研究所的邀請，日本國立材料研究所（NIMS）Michiko YOSHITAKE高級研究員于10月29日訪問新能源所，為新能源所的師生員工分別做了題為Vacuum technology and surface analysis和Interface characterization of a MOS structure by biased X-ray photoelectron spectroscopy的精彩學術報告，并與30余位科研人員和研究生進行了交流。

　　在第一場報告中，Michiko YOSHITAKE高級研究員詳細介紹了真空技術，薄膜制備技術以及真空分析技術；第二場報告則詳細說明如何運用XPS分析表征金屬氧化物半導體（MOS）的界面。這兩場報告內容生動豐富，引起了在座科研人員和研究生的熱烈討論。

　　Michiko YOSHITAKE1987年畢業于日本東京大學，并獲得博士學位。她的研究涉及電子設備、傳感器和催化領域中金屬/超薄氧化鋁/金屬結構的合成，利用多重技術表面和表面勢能以及人工修飾表面分子吸附等。目前已發表期刊論文，綜述文章150余篇，并于2008年獲得Ohm獎。