日立新型場發射掃描電子顯微鏡Regulus?系列上市

－分辨率?倍率的提升和新功能的搭載，從而獲得更高質量的圖像－

　　2017年5月31日，日本株式會社日立高新技術（TSE:8036，日立高新技術）于5月30日開始發售場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）的全新品牌 "Regulus^?系列"。 "Regulus系列"是日立高新技術的FE-SEM的全新品牌，包括作為SU8010的后續機型開發的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升級 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4個機型，均實現了分辨率和操作性的強化。

　　掃描電子顯微鏡（SEM）被廣泛應用于納米技術，半導體?電子行業，生命科學，材料科學等領域的材料結構觀察。近年來，新一代的電子器件應用中受到廣泛期待的新型碳材料，高分子材料，復合材料等的研究作為先進科學技術的中堅技術，在全世界范圍內受到熱捧。掃描電子顯微鏡廣泛用于這些材料的觀察?評價，但僅僅具有超高分辨率還遠遠不夠。還要求能在低加速電壓下對表面細微結構的觀察和高靈敏度的元素分析。除此之外，在長期的研究過程中還追求電鏡的性能的持續穩定和信賴性。

　　本次發布的新品牌 "Regulus系列" 電子光學系統進行了最優化處理，使得著陸電壓在1kV時分辨率較前代機型提高了約20％。"Regulus8220/8230/8240"達到0.9nm，"Regulus8100"為1.1 nm的分辨率。另外，最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節放大，并獲得高質量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了200萬倍。

　　除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化，如信號檢測系統的操作輔助功能，維護輔助功能等。

　　日立高新技術以2020年成為電子顯微鏡行業全球第一為目標和中期經營戰略，將繼續加強研發，并為技術發展做出相應貢獻。在今后，日立高新技術以高科技?解決方案事業方面的行業第一為目標，站在客戶的立場，快速對應市場需求，成為最先進?最前沿的事業創造企業。

Regulus8100

　　主要特點：

　　 搭載了色差極小的適合低加速電壓高分辨率觀察的冷場電子槍

　　 跟前代機型相比分辨率大約提高了20%

　　 （Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）

　　 最大倍率從原來的100萬倍提高到200萬倍*1

　　 用戶輔助功能，幫助用戶把儀器的高性能完全發揮出來

　　主要參數：

　　*1 僅限 Regulus8240/8230/8220

　　*2 減速模式觀察

　　*3 127 mm × 95 mm 視野的畫面倍率

　　*4 5軸馬達臺為選配項