1.蒸發鍍膜和濺射鍍以及離子鍍都是物理氣相沉積（PVD）的工藝方法。
2.蒸發鍍主要包括：電阻加熱蒸發、感應加熱蒸發、電子束蒸發、激光加熱蒸發、離子束蒸鍍等。
3.您所說的E型槍鍍膜和直型電子槍鍍膜都是屬于熱蒸發鍍膜的范疇。
4.S槍濺射實際就是錐形磁控濺射靶，陰極靶材為環狀錐形，安裝在水冷座上。環狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場，其平行靶面的磁場分量和垂直于靶面的電場分量形成正交電磁場。電子束被約束在靶面附近運動，電子流密度很大，在靶面附近產生很強的非彈性碰撞，電離幾率很大，形成很強的等離子體。