采用質子激發的X射線能譜分析 (PIXE)方法對磁過濾陰極真空弧沉積 (FVAPD)裝置在Al板上合成Ti膜相對厚度進行了測量 ,給出了沉積靶室中不同位置大面積合成薄膜的均勻性 .通過同背散射分析 (RBS)測量結果的比較表明 :利用在輕襯底上合成重元素薄膜的PIXE分析可以快速、無損和精確地測量FVAPD裝置合成薄膜的均勻性 .
