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  • 發布時間:2024-06-07 17:48 原文鏈接: 清華大學儀器共享平臺Gatan離子束鍍膜刻蝕系統

    儀器名稱:離子束鍍膜刻蝕系統
    儀器編號:14012804
    產地:美國
    生產廠家:Gatan
    型號:682
    出廠日期:201308
    購置日期:201407

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    樣品要求:

    尺寸要求:最大尺寸直徑32mm、高度10mm

    樣品其他要求:真空下不能有揮發物。

    所屬單位:材料學院>材料中心 >電鏡中心
    放置地點:主樓11-127
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:王永力(010-62773015,13911378129,447293071@qq.com)
    閆允杰(010-62773996,13651374317,yanyunjie514@263.net.cn)
    分類標簽:碳膜 鍍膜儀 離子束鍍膜 高分辨 高分辨觀察 高分辨鍍膜 Gatan 682 超高分辨鍍膜 高分辨分析 無熱損傷 離子束刻蝕系統 離子束刻蝕 EBSD樣品拋光 去應變層 去非晶層
    技術指標:

    鍍膜厚度:0.1nm/秒,最大厚度100nm

    鍍膜材料:C

    知名用戶:清華大學、物理所、北京科技大學、農大、北郵、北大、地大、礦大等
    技術團隊:

    北京電子顯微鏡中心建設了一支由國際知名的電子顯微學和材料科學專家為學術帶頭人、由通曉電子顯微分析理論和技術及材料科學等相關理論的優秀研究和技術人員組成且結構合理的人才隊伍,由固定和客座研究人員組成,承擔科學研究、共享服務人才培養、設備管理和維護等具體工作,固定科研和技術人員共10人,其中院士1人,教授2人,副教授2人,高級工程師4人(博士一人,碩士兩人,學士一人),工程師3人(博士)。設備運行采取責任教授和責任工程師負責制。

    功能特色:

    可以進行精密鍍膜,現有靶材C;

    鍍膜時間短:一般1小時以內完成鍍膜

    鍍膜沒有溫升,對樣品損傷小(由于是離子束轟擊到靶材上,間接把靶材的材料鍍到樣品上,因此該種方式鍍膜對樣品損傷小)


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