• <table id="4yyaw"><kbd id="4yyaw"></kbd></table>
  • <td id="4yyaw"></td>
  • 發布時間:2024-05-30 10:50 原文鏈接: 清洗系統共享應用

    儀器名稱:清洗系統
    儀器編號:04009244
    產地:臺灣
    生產廠家:弘塑科技有限公司
    型號:SolventStrip
    出廠日期:200312
    購置日期:200410


    所屬單位:物理系>納米中心>納米中心加工平臺
    放置地點:納米樓超凈間
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:馬偉濤(010-62796022,13910326054,413113259@qq.com)
    分類標簽:05080122 微納加工
    技術指標:

    硫酸工藝設定溫度:120度

    混合化學藥劑溶液:H2SO+H2O2

    溶液槽容量:6L

    知名用戶:校內用戶:清華大學化學系、物理系、材料系、環境系、核研院、航院、精儀系、機械系、微電子所、電子系、醫學院、工物系、熱能系、力學系、建筑系、水利系、土木系、電機系、基礎工業訓練中心等二十余個院系。校外用戶:北京大學、中科院國家納米中心、半導體所、北航,北理工,中科院物理所、北科大、北化工、北林大、地質大學、成都電子科技大學、上海交通大學、同濟大學等多個課題組
    技術團隊:

    屬于納米中心測試加工平臺,有完善的組織管理體系,有經驗豐富的儀器維護管理工程師和專業的實驗員,還有納米中心廠務部門支持儀器的外部的水、電、氣的供應。

    功能特色:

    設備配有排風管道隨時抽走揮發性的酸堿

    設備自動化程度高可以控制溫度并且和能夠監控溫度

    自動和手動控制每個溶液槽操作

    細微調節水槽補水、放水、溢流時間

    每個溶液槽配置一個水槽,使得溶液之間沒有互相污染

    面板式按鈕操作,直觀易操作。

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    清洗 去膠元/小時自主上機機時費300.0
    樣品要求:

    樣品材料:半導體材料襯底

    樣品尺寸:最大可清洗4英寸襯底


  • <table id="4yyaw"><kbd id="4yyaw"></kbd></table>
  • <td id="4yyaw"></td>
  • 调性视频