激光脈沖沉積（PLD)的發展前景

　　由脈沖激光沉積技術的原理、特點可知，它是一種極具發展潛力的薄膜制備技術。隨著輔助設備和工藝的進一步優化，將在半導體薄膜、超晶格、超導、生物涂層等功能薄膜的制備方面發揮重要的作用；并能加快薄膜生長機理的研究和提高薄膜的應用水平，加速材料科學和凝聚態物理學的研究進程。同時也為新型薄膜的制備提供了一種行之有效的方法。