技術配置1、分光系統
l帕型-龍格結構；
l波長范圍170nm～510nm；
高精度光刻蝕整體狹縫，可通過折射鏡微調通道偏差；
凹面全息光柵，750mm焦距；
光柵刻線2400條/mm；
一級光譜線色散率0.55nm/mm；
整體鑄造光室，可保證光室真空度工作在10Pa以下。
分光系統采用動態安裝，避免溫度、光室真空形變及機械應力變化的影響；
自動恒溫系統，保證光室溫度36℃±0.5℃；
具有震動保護功能。
2真空系統
特殊設計的真空系統，保證了光室穩定的高真空度，進而提高了光學系統的穩定性；
特殊設計的前光路，可在保證光源激發光斑穩定的情況下，最大限度地提高了光室進光量。
3 樣品激發臺
激發室的特殊設計，使清潔工作更加便利；
更小的激發空間，使氬氣消耗更小；
特制的樣品壓桿，使日常分析時更換樣品更加方便；
開放式樣品激發臺可適應各種大小、更多形狀樣品的分析；
具有電極自保護回路，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易；
透鏡部分的結構設計，使透鏡拆裝、擦拭更方便，氬氣的沖洗設計更可以延長透鏡清洗周期。
4 光源
單向低壓脈沖火花光源，最高頻率可達312Hz；
高能預然技術；
可調的多種預燃條件和積分條件；
可實現多火花分組測量，提高分析精度；
所有激發參數由計算機系統控制；
具有過流監測、短路保護功能；
放電為組合式單向放電，可實現低、中、高三種激發能量切換；
最大放電電流可達100A。
5數據采集系統
數據采集箱中，各部分均采用模塊化組合設計，使裝配維護更加便利；
l對設備的各種電壓狀態、光室溫度、氬氣壓力、真空度等進行檢測和控制，當計算機死機或關機時，仍可保證這部分的持續可控。
6 計算機系統
主頻：650MHz
內存：1G
硬盤：80G以上
光驅：DVD-ROM光驅
顯示器：17”TFT液晶顯示器
并口：1個
USB口：2個
打印機：金屬分析儀專用高速針式打印機
7 分析軟件
基于WindowsXP操作系統的圖形化分析軟件，方便實用；
可選擇各次采集的積分火花個數，計算機精準控制每次分析的放電火花個數；
可設置光源放電頻率、能量；
可設置分析元素的置信區間，自動過濾分析過程中的異常數據；
可處理多內標、背景通道；
百分含量與誘導含量混合擬合曲線方式，可方便適合各元素分析要求；
軟件具有扣干擾功能；
控樣分為自動修正、人為修正，使分析數據的準確性更容易控制；
具有完善的電路及系統狀態監測功能；
具有分析數據庫管理功能，可方便查詢、匯總數據，并按用戶要求打印、存儲數據；