分析測試百科網訊 2016年3月14日，牛津儀器“新型納米技術先進工藝研討會”在上海浦東假日酒店舉辦，本次研討會邀請了業內專家學者就納米制造、新工藝技術等方面展開了一系列的學術交流，讓在場的參會人員受益匪淺，更深入了解了牛津儀器在納米技術方面的新產品、新進展和新應用。分析測試百科網受邀參加了此次活動。
牛津儀器新型納米技術先進工藝研討會
牛津儀器新型納米技術先進工藝研討會由來自英國總部OIPT全球運營總監的Dr.David Haynes上臺致開幕詞，介紹了牛津儀器的歷史、理念和全球業務，著重介紹了納米設備業務方向、市場戰略、OIPTs和MEMS的相關產品及未來趨勢，以及提供滿足用戶需求的解決方案。
牛津儀器OIPT全球運營總監的Dr.David Haynes
牛津儀器創建于1959年，生產分析儀器、半導體設備、超導磁體、超低溫設備等高技術產品，曾13次榮獲英國創新女王獎。牛津儀器擁有很多的第一，1961年推出首臺磁體；1966年推出世界首臺稀釋制冷機；1978年首臺用于全身核磁共振成像的超導磁體面世；1990年首臺X射線探測器榮獲R&D 100獎；1997年推出世界首臺手持式XRF分析儀；2006年推出首臺商業動態核極化設備(DNP)；2013年牛津儀器X光管登陸火星...牛津儀器始終關注這中國的發展早在40年前其產品就進入了中國市場，目前牛津儀器在北京、上海、廣州和成都設有分公司或辦事處，為中國用戶提供及時而有效的服務。
牛津儀器二維材料資深科學家Dr.Ravi Sundaram
牛津儀器二維材料資深科學家Dr.Ravi Sundaram上臺作《二維材料工藝研討》的精彩演說。Dr.Ravi Sundaram介紹了幾種不同的超越石墨烯的二維材料，當前二維材料正受到越來越多的關注，越來越多的領域需要使用二維材料。而二維材料又該如何操作呢?b
牛津儀器Nanofab能進行原位催化劑活化和精確的工藝控制，可以實現高效能的納米材料生長。Nanofab采用化學氣相沉積(CVD)工藝，微納米材料的研究提供機械設備，可應用于原子層沉積和相對較厚的薄膜沉積。
牛津儀器OIPT全球運營總監的Dr.David Haynes帶來《采用ALD與ALE進行納米制造》的精彩報告。原子層沉積(ALD)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處，但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。ALE是以單原子層為單位進行的外延生長，可以教精確的控制外延層厚度和異質結界面，是制作超晶格、量子阱等低維結構的化合物薄膜材料較好的生長方法。
原子層沉積(ALD)具有高深寬比結構的保形涂層，可微納米應用提供精確可控的超薄膜。這款開放式進樣熱ALD可與等離子體進行集成，可現場升級與等離子體進行適配。
牛津儀器MEMS和傳感器運營經理Mr.Michael Steel
牛津儀器MEMS和傳感器運營經理Mr.Michael Steel帶來《提高刻蝕產能新工藝》的精彩報告。Mr.Michael Steel主要介紹了刻蝕新工藝——深硅刻蝕技術，這項技術增強了刻蝕工藝的靈活性。
PlasmaPro 100 深硅刻蝕專為HBLED材料苛刻的化學要求而設計，能在最大直徑為200mm的晶圓上獲得均勻、快速的蝕刻速率。配置的專用的靜電夾還可以夾持藍寶石、藍寶石上的GaN和硅，具備主動冷卻電極可在蝕刻過程中維持樣本溫度不變、高功率ICP源可產生高密度的等離子體、磁隔離裝置可用于增強離子控制和均勻度、高導電的泵送系統等特點。
最后，Dr.David Haynes又為參會人員帶來《PECVD新技術》的精彩報告，報告介紹了感應耦合等離子體-化學氣相沉積、等離子體增強化學氣相沉積、物理氣相沉積技術等。
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