物理氣相沉積的基本過程
（1）氣相物質的產生
一類方法是使鍍料加熱蒸發，稱為蒸發鍍膜；另一類是用具有一定能量的離子轟擊靶材（鍍料），從靶材上擊出鍍料原子，稱為濺射鍍膜。
（2）氣相物質的輸送
氣相物質的輸送要求在真空中進行，這主要是為了避免氣體碰撞妨礙氣相鍍料到達基片。
（3）氣相物質的沉積
氣相物質在基片上沉積是一個凝聚過程。根據凝聚條件的不同，可以形成非晶態膜、多晶膜或單晶膜
