成形電子束曝光系統按束斑性質可分成固定和可變成形束系統。固定成形束系統在曝光時束斑形狀和尺寸始終不變；可變成形束系統在曝光時束斑形狀和尺寸可不斷變化。按掃描方式，成形電子束曝光系統又可分為矢量掃描型和光柵掃描型。一種尺寸可變的矩形束斑的形成原理是電子束經上方光闌后形成一束方形電子束，再照射到下方方孔光闌上。在偏轉器上加上不同的電壓，就能改變穿過下方孔光闌的矩形束斑的尺寸，形成可變的矩形束斑；采用特殊設計的成形光闌，還可形成三角形、梯形、圓形及多邊形等成形電子束。成型束的最小分辨率一般大于100nm，但曝光效率高，廣泛用于微米、亞微米及深亞微米的曝光領域，如用于掩模版制作和小批量器件生產等。