電工所科技前沿論壇“微光刻與電子束光刻技術”開講

　　從1958年世界第一塊平面集成電路到2012年04月24日英特爾在北京天文館正式發布核心代號為Ivy Bridge的第三代酷睿處理器—英特爾首款22納米工藝處理器，短短五十多年，微電子技術一直遵循著摩爾定律，發展勢頭迅猛。

　　針對微光刻與電子束光刻技術發展圖譜，7月6日，中科院微電子所陳寶欽研究員做客電工所《科技前沿論壇》學術報告會，與電工所科研人員分享了一堂精彩的交流課。

　　作為全國半導體設備與材料標準化技術委員會副主任、微光刻分委會主任，全國納米技術標準化技術委員會微納加工技術工作組副秘書長，北京半導體專業委員會副主任、制版分會主任，陳寶欽研究員多年來一直從事光掩模與先進掩模制造技術、電子束光刻技術、微光刻與微納米加工技術的研究和開發工作。

　　本次報告，陳寶欽研究員主要講解了從1958年世界上出現第一塊平面集成電路到20世紀80年代世界上集成電路制造進入自動化大生產，再到2012年英特爾首款22納米工藝處理器誕生等微光刻與電子束光刻技術的發展歷程與現狀，討論了微光刻與電子束光刻技術在納米級高分辨微圖形轉移等方面所面臨的挑戰以及需要對應解決的圖形數據處理、圖形曝光和圖形刻蝕等關鍵技術問題。報告詳細介紹了國內外微光刻與微納米加工技術發展歷程、光學曝光技術、光學曝光分辨率增強技術及先進掩模技術、應用于微納米制造的電子束直寫技術及電子束極限光刻技術、微光刻圖形數據處理技術與鄰近效應校正技術、下一代光刻技術、傳統和非傳統的納米制造技術等。

　　作為信息科學技術的基礎與先導，微電子技術仍處在方興未艾的急速發展之中，其發展推動著整個社會各行各業的進步。微電子技術工藝基礎——微光刻與微/納米加工技術，是人類迄今為止能夠達到納米級精度的加工技術，其加工設備和加工工藝也在不斷發展以滿足芯片加工從微米到納米尺度的需求。一旦將電子元件作到納米量級，其芯片的運行速度和內存都將大幅度提高，從而為未來的單電子計算機或納米計算機的設計與實現開辟一條新的途徑。