溫度控制
一級的光學反應對溫度變化并不敏感，然而，隨之而來的二級反應的速度則和溫度變化緊密相關。一般來說，隨著溫度升高，反應速度會加快，因此，在UV暴曬試驗過程中，溫度控制就顯得很重要，更重要的是要將加速試驗所采用的試驗溫度與材料在實際應用中遭遇的最高溫度相匹配。在設備中UV過程的溫度設置為50℃~70℃中的任何一點，具體取決于光照度水平和室內環境氣溫。設備的溫度調節是通過具有微電腦演算功能的控制器來指揮設備內的空氣加熱器、水加熱器等一系列系統來完成。
濕氣：
隨著溫度的提高，潮濕對材料的破壞力會急劇增加。因此在潮濕過成中，溫度控制是最基本的要求。更進一步說，要產生加速效果就是要求在潮濕過程中保持高溫環境。所以在冷凝過程的溫度設置為+40℃~+60℃中的任何一點。
加熱系統
1、采用U型鈦合金高速加溫電熱管
2、溫度控制與光照完全獨立系統
3、溫度控制輸出功率均由微電腦演算，以達高精度及高效率之用電效益
4、加熱系統具有防超溫功能：
5、黑板溫度采用彩色觸摸屏程控儀或數位按鍵溫控儀控制加熱，輸出功率均由微電腦演算，PID自整定，監控采用標準的PT100黑板溫度傳感器。
6、水槽溫度采用彩色觸摸屏程序韓國溫控儀控制加熱，水槽位于箱體下部，內置電加熱水器。在測試過程中，有一個測試段是黑暗凝露過程，它需要箱體內能產生較高溫度的飽和水蒸氣，當水蒸氣遇到相對較冷的樣板表面時，會在樣板表面凝結露水。