一級的光學反應對溫度變化并不敏感，然而，隨之而來的二級反應的速度則和溫度變化緊密相關。一般來說，隨著溫度升高，反應速度會加快，因此，在UV暴曬試驗過程中，溫度控制就顯得很重要，更重要的是要將加速試驗所采用的試驗溫度與材料在實際應用中遭遇的最高溫度相匹配。在設備中UV過程的溫度設置為50℃~70℃中的任何一點，具體取決于光照度水平和室內環境氣溫。設備的溫度調節是通過具有微電腦演算功能的控制器來指揮設備內的空氣加熱器、水加熱器等一系列系統來完成。
濕氣：
隨著溫度的提高，潮濕對材料的破壞力會急劇增加。因此在潮濕過成中，溫度控制是最基本的要求。更進一步說，要產生加速效果就是要求在潮濕過程中保持高溫環境。所以在冷凝過程的溫度設置為+40℃~+60℃中的任何一點。