七十年代中期美國軍事電子技術和器件實驗室應用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術主要在軍事領域中進行研究性應用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電子產品的工業生產過程，并開始向我國個別外資LCD企業在要求技術保密的情況下提供UV光清洗機。隨后，日本在發展紫外光表面清洗技術的同時，紫外光表面改質技術也得到了發展。在二十世紀末，日本等先進工業國家紫外光表面清洗和改質技術由信息產業逐步擴展到金屬、塑料、橡膠等工業生產過程。二十世紀九十年代后期，我國的信息技術和產業以驚人的速度飛速發展，特別是平板顯示技術的高速發展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產品也開始進入市場。由此，對制備工藝過程表面質量要求越來越嚴格，紫外光表面清洗技術的優越性已經得到廣泛認可，紫外臭氧清洗機的需求量正在不斷增長。