輝光放電發射光譜分析技術

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　　技術定義和應用

　　輝光放電光譜分析技術是一種依據惰性氣體在低氣壓下放電的原理而發展起來的光譜分析技術，可用于各種材料成分分析和深度分析，在國防軍工、材料科學、地質冶金等領域得到廣泛應用。

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　　技術特點和原理

　　在輝光放電光譜儀中，被電場加速的氬離子使樣品產生均勻的濺射，樣品作為陰極，放在陽極的前面，濺射出來的樣品原子離開樣品表面，在陽極區與氬離子碰撞而被激發，產生樣品組成元素的特征光譜。不同波長的光經分光系統分光并檢測各單色光光強，通過已經建立的各元素的標準曲線，計算出各元素濃度。

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　　主要測試設備

　　輝光放電光譜儀（lecoGDS850A）

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　　主要技術指標

　　檢出限可達μg/g（金屬及合金試樣）

　　重復性（RSD）：（0.1~1）%（分析主量元素和次量元素）

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　　相關產品或服務

　　用于金屬、合金等導體材料及玻璃、陶瓷、地質等非導體試樣的固體直接進樣元素濃度測定和元素深度分布分析。