鈾鈮合金真空熱氧化膜的俄歇電子能譜研究

用俄歇電子能譜(AES)研究了高真空下,環境溫度對鈾鈮合金真空氧化膜的影響。當溫度高于603K時,氧化膜表面結構發生明顯改變,表面主要由鈾碳化合物、金屬態的U和Nb組成。利用Ar+濺射鈾鈮合金真空熱氧化膜進行深度分布分析,發現在熱氧化膜的表面氧含量很小,而在熱氧化膜的內部有氧增多的現象。