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  • 發布時間:2024-05-30 10:50 原文鏈接: DRYTEK去膠設備(等離子光刻)共享應用

    儀器名稱:去膠設備(等離子光刻)
    儀器編號:90175600
    產地:美國
    生產廠家:DRYTEK
    型號:MS-5
    出廠日期:199002
    購置日期:199003


    所屬單位:集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝
    放置地點:微電子所新所一層微納平臺
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:竇維治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
    李希有(010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn)
    分類標簽:集成電路 微納加工 半導體工藝 刻蝕 等離子
    技術指標:

    PLASMA去膠

    知名用戶:王喆垚、任天令、劉澤文、吳華強、梁仁榮、潘立陽、王敬、許軍、鄧寧、錢鶴、伍曉明(微電子所) 尤政、朱榮、阮勇(精儀系)、羅毅(電子系)、姚文清(化學系)
    技術團隊:

    吳華強、伍曉明、劉朋、李希有、仲濤

    功能特色:

    刻蝕方式: PLASMA模式 主要刻蝕介質:正膠、負膠等.  刻蝕尺寸:4英寸及以下及切割片。選擇比、均勻性良好。

    樣品要求:

    單片式;硅片尺寸:4英寸及以下


    預約說明:

    實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則

    取消預約需提前2個小時通過網上取消預約;

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    送樣去膠元/小時自主上機機時費300.0
    送樣刻蝕元/小時測試費300.0


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