| 儀器名稱： | MA6雙面光刻機 |
| 儀器編號： | 00011041 |
| 產地： | 德國 |
| 生產廠家： | Karl Suss |
| 型號： | MA6 |
| 出廠日期： | 199907 |
| 購置日期： | 200010 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一樓微納平臺光刻間 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 王喆垚（010-62772748,13552821122,z.wang@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 集成電路 半導體 微納加工 光刻 |
| 技術指標： | 對準精度2微米 |
| 知名用戶： | 北京大學、中科院電子所 |
| 技術團隊： | 教授1人、副教授1人、工程師1人 |
| 功能特色： | 本設備可進行雙面對準和曝光，雙面對準精度2微米，可對30um以下厚膠曝光。硅片尺寸為5英寸、4英寸、3英寸。另外可以進行SU-8等厚膠光刻。 |
樣品要求：
| 單片式；硅片尺寸：5英寸、4英寸、3英寸 |
預約說明：
實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則
取消預約需提前2個小時通過網上取消預約
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 厚膠光刻 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 600.0 |