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  • 發布時間:2024-05-30 09:55 原文鏈接: NICP刻蝕機共享應用

    儀器名稱:NICP刻蝕機
    儀器編號:02011812
    產地:中國


    生產廠家:中科院微電子中心自制
    型號:NICP-I型
    出廠日期:200107
    購置日期:200210


    所屬單位:集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝
    放置地點:微電子所新所一層微納平臺
    固定電話:
    固定手機:
    固定email:
    聯系人:竇維治(010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn)
    李希有(010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn)
    分類標簽:半導體工藝 微納加工 集成電路 刻蝕
    技術指標:

    介電材料刻蝕:PLASMA、RIE、ICP多種模式;刻蝕精度:1微米

    知名用戶:王喆垚、任天令、劉澤文、吳華強、梁仁榮、潘立陽、王敬、許軍、鄧寧、錢鶴、伍曉明(微電子所) 尤政、朱榮、阮勇(精儀系)、羅毅(電子系)、姚文清(化學系)
    技術團隊:

    吳華強、伍曉明、劉朋、李希有、仲濤

    功能特色:

    NICP刻蝕機有多種刻蝕方式:PLASMA模式、RIE模式、ICP模式;刻蝕精度:1微米。主要刻蝕介質:Si、BCB、PI等. 刻蝕尺寸:5英寸及以下及切割片。選擇比、均勻性良好。  

    樣品要求:

    多片式;硅片尺寸:5英寸及以下


    預約說明:

    實驗室的設備采用網上預約的方式、以先約先用為基本原則

    取消預約需提前2個小時通過網上取消預約;

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    刻蝕元/小時自主上機機時費300.0
    送樣刻蝕元/小時測試費300.0


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