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  • 發布時間:2024-05-30 16:41 原文鏈接: PicosunOy真空互聯原子層沉積系統共享應用

    儀器名稱:真空互聯-原子層沉積系統
    儀器編號:21029113
    產地:芬蘭
    生產廠家:Picosun Oy
    型號:R-200 Advanced
    出廠日期:
    購置日期:2021-11-25

    image.png

    所屬單位:集成電路學院>微納加工平臺>真空互聯
    放置地點:微電子學研究所南平房實驗室108號
    固定電話:01062784044
    固定手機:13051135063
    固定email:zygao@mail.tsinghua.edu.cn
    聯系人:
    分類標簽:半導體 薄膜 微納
    技術指標:

    樣品最大尺寸: 8英寸(兼容2英寸)

    ◇ 樣品不均勻性:優于1.0%

    ◇ 載物臺最高溫度: 500 °C

    ◇ 腔體最高溫度: 500 °C

    ◇ 前軀體最高加熱溫度: 200 °C

    ◇ 帶等離子增強功能,射頻電源300 W

    ◇ 氣路:O plasma, H2O,Al源,Ti源,Hf源,Zr源六路前軀體管路

    知名用戶:科學學院宋成教授課題組
    技術團隊:

    微電子所

    功能特色:

    將物質以單原子膜形式一層一層的生長在沉底上

    樣品要求:

    8英寸(兼容2英寸)


    預約說明:

    由于該套系統的特殊性,將采用不同以往的開放形式:使用設備團隊負責人提出項目申請、項目評審委員會提出預審意見并由中心主任審批、設備工程師負責具體機時安排和使用培訓。

    項目名稱計價單位費用類別價格備注
    材料生長元/小時自主上機機時費750.0使用Pt貴重前驅體需430元/10nm


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