一、基本技術平臺
1.儀器:電子顯微鏡(electron microscope,簡稱電鏡或EM)及制樣設備:
①透射電鏡(TransmissonEM, TEM):內部結構
②掃描電鏡(Scanning EM, SEM):表面超微結構
2.樣品制備技術或電鏡技術(electron microscopy):超薄切片技術等
3.圖像識別和處理技術 :診斷醫師及技術員
1. 何為電鏡?
電鏡是使用電子來展示物件的內部或表面結構的顯微鏡。
觀察對象:無機材料:材料、化工、采礦
有機材料:生物、醫學、農學
電鏡:實質上是一類工具,是顯微鏡的一種!但系大型、貴重、精密儀器,其原理、結構與光鏡顯著不同!
2.電鏡基本原理
電子具有波粒二像性且其波長比可見光的波長短(1924年) ,短波長能極大地提高分辨率(光鏡受可見光的波長限制,其分辨率約200納米)。
高速運動的電子在電場或磁場的作用下,會發生折射,并且能被聚焦,聚焦即能成像。
電子射束取代可見光成為可能—1932年電鏡誕生!
3.電子顯微鏡術的發展史
a.電子顯微鏡學:
①儀器: elcctron microscope 電子顯微鏡
②制樣技術: elcctron microscopy 電鏡技術
③圖象識別和分析、處理技術
b. 電子顯微鏡學的發展:1933-目前分三個階段
實驗階段 應用階段 普及階段 提高完善發展階段 30-50年代 50-60年代 60-70年代 70-目前
58年我國生產了第一臺電鏡(南京光學儀器廠)
1979年我校電鏡室成立,購買H—600透射電鏡
4. 電鏡種類
按使用目的分:
透射電鏡(波譜儀、能譜儀、三維重構等)
掃描電鏡(波譜儀、能譜儀)
超高壓電鏡
分析電鏡
掃描隧道顯微鏡
原子間力電子顯微鏡
按用途分:
生物醫學用電子顯微鏡
非生物醫學用電子顯微鏡
按電子束發射方式分:
非場發射:電子槍
場發射:
5. 電鏡與光鏡的比較
由于光的衍射,LM 放大倍數到一定程度時就圖像模糊,而電鏡用電子照明,可更清晰。分辨率是衡量電鏡性能的重要指標。人眼分辨率:約0.2毫米(mm) ,光鏡分辨率:0.2微米(μm) ,電鏡分辨率:0.2毫微米(nm)。光鏡的計量單位是微米(μm),電鏡的計量單位為毫微米(nm)和埃。如人體紅細胞的直徑約為7μm;人體細胞膜的厚度約為7~10 nm。
5.主要電鏡技術
①超薄切片技術; ②負染色技術;
③SEM電鏡樣品制備技術;④冷凍超薄切片技術;
⑤電鏡酶細胞化學技術;⑥免疫電子顯微鏡技術; ⑦電鏡放射自顯影技術;
⑧核酸大分子電鏡樣品制備技術;
⑨電子探針; ⑩電鏡原位雜交技術。
拍照
? CCD相機的靈敏度約比通常的光學相機高40倍。
? 具有更多的自動化功能,如自動聚焦、自動消像散、自動拍照等
? 標準就具有圖像數據庫功能,測長、圖像過濾功能等
? 具有較強的擴展功能,如三維重構等
? 由于CCD相機是和電鏡是一體,因此可以通過手動控制板或PC機來控制CCD相機。在顯示器上顯示的圖像
Featuresof HT7700 (Double-gap Obj. Lens)
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