一、N型半導體
N型半導體也稱為電子型半導體,即自由電子濃度遠大于空穴濃度的雜質半導體。
形成原理
摻雜和缺陷均可造成導帶中電子濃度的增高. 對于鍺、硅類半導體材料,摻雜Ⅴ族元素,當雜質原子以替位方式取代晶格中的鍺、硅原子時,可提供除滿足共價鍵配位以外的一個多余電子,這就形成了半導體中導帶電子濃度的增加,該類雜質原子稱為施主. Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體的施主往往采用Ⅳ或Ⅵ族元素. 某些氧化物半導體,其化學配比往往呈現缺氧,這些氧空位能表現出施主的作用,因而該類氧化物通常呈電子導電性,即是N型半導體,真空加熱,能進一步加強缺氧的程度。
二、P型半導體
P型半導體一般指空穴型半導體,是以帶正電的空穴導電為主的半導體。
形成
在純凈的硅晶體中摻入三價元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成P型半導體。在P型半導體中,空穴為多子,自由電子為少子,主要靠空穴導電。由于P型半導體中正電荷量與負電荷量相等,故P型半導體呈電中性。空穴主要由雜質原子提供,自由電子由熱激發形成。

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