隨著信號傳輸的高速化和高頻化發展,對印制電路板的阻抗設計及控制精度要求日趨嚴格,以減少信號在傳輸過程中的反射、失真等,保持傳輸信號的完整性。PCB制作時由于圖形分布均勻性、PP壓合厚度均勻性、線寬均勻性及電鍍均勻性等問題存在,會導致不同位置阻抗出現差異。本文通過在不同位置設計單端和差分阻抗線,綜合分析圖形分布、走線位置分布、銅厚等對阻抗一致性的影響,并對影響阻抗控制的關鍵因素進行分析,確定了影響阻抗一致性的主要因素及各因素作用強弱,可為PCB生產時提高PCB阻抗一致性提供參考和借鑒。
關鍵詞:阻抗控制;阻抗一致性;介質層厚度;線寬;高速PCB
1 前言
近年來,隨著電子技術的飛速發展,信號的上升沿時間越來越短,PCB信號傳輸頻率和速度也不斷提高[1]。同時,信號傳輸的高速化和高頻化發展使得傳輸線效應日趨嚴重[2],信號在傳輸過程中更容易出現串擾、反射等問題,為保持傳輸信號的完整性、降低傳輸損耗,要求PCB在設計、制造過程中提高阻抗控制精度,盡可能地保證阻抗匹配[3]。對于高頻、高速電路,PCB阻抗控制精度一般控制在10%或7%,部分產品要求控制在5%范圍。
在生產過程中,PCB阻抗控制不僅要管控同一傳輸線的阻抗值在范圍內(同一傳輸線阻抗波動性),還需要保證整板不同傳輸線均滿足控制要求(不同傳輸線阻抗一致性)。由于圖形內真實走線是彎曲的、多樣的,無法對每組傳輸線進行測試。對于有阻抗控制要求的PCB,目前常見的做法是在PCB的拼版板邊或板中間位置設計阻抗測試條,這些測試條與PCB有相同的疊層、線寬/線距等,可通過檢測測試條的阻抗快速、方便地判斷PCB的阻抗控制情況。但是,由于電鍍邊緣效應、層壓板邊溢膠大及線路蝕刻均勻性等因素的影響,測試條與真實走線的阻抗存在一定的差異,使得測試條的阻抗結果無法有效代表走線的真實阻抗值。同時,板內圖形走線位置是多變的,有些傳輸線靠近拼版邊緣,有些位于拼版的中間位置,而層壓流膠、電鍍和蝕刻均勻性等會影響拼版不同位置的阻抗值。為實現高精度阻抗控制,提高拼版內不同傳輸線的阻抗一致性,降低阻抗測試條與拼版內線路的阻抗差異,必須了解影響阻抗一致性的因素,并針對性地進行優化改進。
本文通過試驗設計,針對拼版內阻抗一致性(真實走線之間、真實走線與阻抗測試條之間)的影響因素進行分析探討,量化分析了拼版不同位置處的介質層厚度(簡稱介厚)、介電常數、線寬、銅厚及阻焊層均勻性對阻抗的影響,得出各因素對板邊測試條與板內圖形阻抗差異的影響大小,并對差異的形成原因進行具體分析,可為高速PCB阻抗精度及阻抗一致性控制提供參考。
2 試驗方法
2.1 材料與設備
材料:規格為106、1080、3313的半固化片及0.1 mm芯板
設備:安捷倫E5071C網絡分析儀,金相顯微鏡
2.2 試驗原理及方法
2.2.1 不同位置阻抗差異及影響因素分析
采用不同含膠量的半固化片進行壓合,并在同一板面距板邊不同位置處設計50 Ω單端線和100 Ω差分線。制作完成后采用網絡分析儀測試拼版不同位置阻抗,切片分析拼版不同位置介厚、線寬、銅厚差異。

流程設計:開料→內層圖形→壓合→鉆孔→沉銅→板鍍→外層圖形→圖形電鍍→外層蝕刻→阻焊→沉金→測試
2.2.2 半固化片含膠量對不同位置介厚、介電常數及阻抗的影響分析
分別采用3張106、2張1080.和2張3313半固化片與1oz銅箔進行壓合,而后蝕去銅箔并測量不同位置介厚差異,并通過軟件模擬計算:(1)拼版不同位置因介質層厚度差導致的阻抗差異;(2)流膠差異對介質層介電常數的影響及由此導致的阻抗差異。
2.2.3 殘銅率差異對介厚控制及電鍍的影響
拼版內層圖形采用線寬為177.8 μm的線路,通過調節線路間距獲得殘銅率分別為0%-100%的模塊(步長為10%),外層殘銅率設計為20%、33%和50%。蝕刻后切片分析拼版不同位置處介厚、線寬和銅厚差異,并采用軟件計算其對阻抗的影響。

流程設計:開料→內層圖形→壓合→板鍍→外層干膜→圖形電鍍→外層蝕刻→測試
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