新型光刻機提升微納實用制造水平

　　中科院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊，近日自主研制成功紫外納米壓印光刻機。該機器將新型納米壓印高分辨力光刻技術與紫外光刻技術有機結合，成本僅為國外同類設備的1/3，并在同一加工平臺上實現了微米到納米級的跨尺度圖形加工，使我國微納實用制造水平邁上新的臺階。

　　光刻機是實現微納圖形加工的專用高端設備，它的出現使集成電路得以誕生，引發了第三次工業革命，人類進入信息時代。長期以來，發達國家對光刻機這樣的戰略裝備采取“禁運”和技術封鎖，即使不禁運，光刻機也價格昂貴，嚴重制約了我國高端信息產業的發展。

　　微電子裝備總體研究室主任胡松表示，設備采用的新型納米對準技術，成功將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級，是實現功能化器件加工的關鍵。其應用突破了現有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障。設備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結構器件的制備。