理學推出全反射X射線熒光光譜儀鎘元素檢測有優勢

　　近日，日本理學宣布推出新一代理學NANOHUNTER II臺式全反射X射線熒光（TXRF）光譜儀，液體或固體表面高靈敏度痕量元素分析達到ppb水平。全反射X射線熒光光譜通過一種途徑使X射線入射光束剛好擦過樣品，來實現低背景噪音、高靈敏度的超微量元素測量。

NANOHUNTER II臺式全反射X射線熒光（TXRF）光譜儀

　　全反射X射線熒光分析是利用原級X射線束能在樣品表面產生全反射激發進行X射線熒光分析的裝置和方法。由于其取樣量小、檢出限低的優勢，克服了常規XRF取樣量大、靈敏度低這些最明顯的缺陷，因而常用來解決地學、材料、微電子、環境、生物醫學、刑偵和考古等學科中超微量樣品的超痕最元素分析的難題。

　　由于環保法規日益嚴格，使用更簡單的方法進行低至ppb級別分析的需求不斷上升，諸如工廠廢液等中的砷（As）、硒（Se）和鎘（Cd）分析。據悉，使用NANOHUNTER?II光譜儀，即使是非常小的樣本尺寸也能進行ppb級的分析，僅僅通過添加一滴液體到樣本臺，干燥之后即可測量。

　　該NANOHUNTER II全反射X熒光分析儀結合了全自動光軸調節系統，用來提供穩定的高靈敏度分析，臺式外形方便操作，能夠快速無故障運行。600瓦功率的X射線源，最先研制的光學器件和大面積硅漂移探測器（SDD），可以實現高強度、高靈敏度測量。鎘檢測下限為2 ppb，對于液體中的砷和硒，檢測下限能達到0.8 ppb以下。

　　該儀器一個重要的優點是Kα線的高效率激發。到目前為止，優異的鎘的Kα線極具挑戰，因此內內人士基于L-線進行分析，這種方式很難測量。在本裝置中采用新開發的光學元件可以使用30 keV 的高功率激發源，這使得測量鎘時它對Kα線有高的信噪比和明顯的峰形。這一功能的廣泛開發，預計能在工廠廢液篩查分析和酒類等飲料的分析中廣泛應用。

　　在固體表面分析領域，需要穿透略深于表層的范圍（主要在薄膜和膜厚方面）進行分析。對于這種類型的分析，采用掠入射X射線熒光（GI-XRF）方法，通過改變X射線源的入射角使表面之下的元素被激發。NANOHUNTER II光譜儀具備改變入射角的功能，能夠進行深度表面分析。GI-XRF技術適用于納米級研究。

　　儀器特點

　　1、檢測元素范圍廣

　　可檢測元素從Al 到U。

　　2、針對極小樣品量檢測

　　對于液體樣本，10uL-50uL就足夠了，比常規化學分析方法樣本量低一到兩個數量級。法醫調查中可以達到理想的使用非破壞方法用于痕量證據的分析。

　　3、自動測量

　　通過使用16位樣品轉換機構，能夠進行自動操作（連夜運行）；

　　對于設備安裝無特殊要求；

　　100伏交流電源可運行，分析無需氣體。

　　相比上代的改進要點

　　1、新的高功率X射線源

　　采用600瓦的X射線源，相比前代50瓦源顯著增加。

　　2、鉬（Mo）激發實現100倍靈敏度提高

　　與（8 keV）銅（Cu）激發靈敏度提高10倍相比，鉬（Mo）激發（18keV）靈敏度提高100倍。對于銅和鉬之間，原子序數在30到41的元素能夠被高效激發，全新開發的多層膜反射鏡光學器件，使得原子序數44-49的元素的Kα線可以被激發。

　　3、有競爭力的價格

　　通過較低的價格實現各種技術革新。