等離子發生器能噴涂高質量薄膜

　　俄羅斯莫斯科工程物理學院（NRNUMEPhI）的科學家在《表面與涂層技術》雜志上發表的文章中稱，他們研制出能在熔融材料的蒸汽中產生強電流脈沖磁控放電的等離子發生器。新技術能更快地噴涂出高質量的薄膜。

　　 磁控濺射是對使用節能涂層材料的建筑物玻璃進行沉淀的唯一方法，可將能顯著提高性能的硬涂層噴射到切割工具上。在微電子學中，這種辦法被用于集成電路板的金屬化；在光學中，可用來生產濾光器；也可用來生產疏水涂層。新研制的等離子發生器由等離子接頭和電源組成，在特殊的磁控放電模式下工作，在這些模式下能發揮熔融材料的強烈蒸汽作用，以此形成涂料。

　　 該校等離子物理教研室研究員亞歷山大·杜馬爾金說：“在零件上的薄膜慢速增長與真空蒸發，長期以來一直都是磁控濺射技術的難題。新技術成功地將兩種技術的優點合二為一。我們已經學會在保證質量情況下的高速濺射。”

　　 莫斯科工程物理學院等離子物理教研室的科學研究員安德烈·卡奇耶夫說：“設備的工業樣品和用于生產高質量單獨涂層的模塊一樣。我們的潛在客戶是生產節能窗、現代能源組件以及各型材機械制造的企業。”

　　 在全球，磁控濺射法占了生產適用于電子、機械、建筑和其他領域的金屬及介電涂層市場的很大一部分份額。該方法是對被加工的零件涂上借助等離子、通過特別靶標噴出的材料。目前，磁控濺射鍍膜是在高技術領域中生產薄膜最常見的方式。