機臺功能
In-line SEM主要用途為線上產品線寬量測,又稱CD-SEM,其特點為WAFER無須經過切片或鍍金屬膜等預處理步驟,即可觀察及量測光阻、絕緣層及金屬層等之圖案,本量測設備屬于非壞性檢測,量測完成之WAFER可以繼續進行下一制程步驟,因此稱為線上型電子顯微鏡。
本機臺僅能量測線寬,由于試片無法傾斜,因此無法觀察試片斷面,本機臺主要規格如下:
1. 加速電壓:0.7~1.3kv
2. 放射電流:3~20mA
3. 電子槍:冷陰極場發射電子源(CCFE)
4. 解析度:6 nm(GOLD)
5. 放大倍率:100X~150000X
6. 試片尺寸:6"晶圓 (平邊)
7. 影像旋轉:-50°~95°
8. 真空度:≦1×10-7Pa(電子源)
機臺的限制(材料,參數范圍等)
特殊注意事項:
1. 試片必須合于規定的尺寸及材質,試片底材:Si,試片尺寸:6 inch,具有單一平邊。
2. 試片須完整,不可有缺角或裂紋。
3. 因電子腔內為高度真空,故試片不得為揮發性物質、不得為在電子束掃描時具揮發性之物質。
4. 試片若含光阻,必須先做完硬烤(HARD BAKE),才可將試片送入。
5. 試片不得含有磁性物質。
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