由中國物理學會質譜分會,北京雪迪龍科技股份有限公司聯合主辦,中國科學院上海應用物理研究所,分析測試百科網,中國儀器儀表學會分析儀器分會質譜儀器專家組協辦的質析毫微·譜繪萬象——半導體痕量成分檢測技術交流會將于2025年7月17日在上海·中國科學院上海應用物理研究所學術交流中心舉行。
當前全球半導體產業競爭已進入納米級工藝時代,痕量雜質檢測成為決定芯片性能、良品率及可靠性的核心環節。在單晶硅制備、光刻膠純化、刻蝕氣體分析等關鍵流程中,十億分之一(ppb)甚至萬億分之一(ppt)級別的雜質都可能引發器件失效。二次離子質譜(SIMS)、氣相色譜(GC)、ICP-MS、光腔衰蕩光譜(CRDS)等尖端技術憑借原子級靈敏度與多維度分析能力,成為破解痕量成分檢測難題的核心工具。
然而,我國高端科學儀器長期依賴進口,尤其在半導體領域,檢測設備的自主可控面臨嚴峻挑戰:核心部件(如高亮度離子源、超精密質量分析器)受制于人,復雜場景下的算法模型尚待突破,設備穩定性與國際先進水平存在代際差距。隨著國家《高端科學儀器自立自強專項行動》的推進,加速國產儀器技術迭代、構建產學研用協同創新鏈,已成為支撐半導體產業鏈安全的戰略需求。
在此背景下,本次技術交流會以 “質析毫微·譜繪萬象”為愿景,聚焦SIMS、GC、ICP-MS、CRDS等技術的國產化突破路徑與產業化實踐,匯聚學術界前沿成果與企業界工程經驗,旨在打通“技術研發-場景驗證-商業應用”閉環,為我國半導體檢測技術自立自強注入新動能。
主辦單位:
中國物理學會質譜分會
北京雪迪龍科技股份有限公司
協辦單位:
中國科學院上海應用物理研究所
分析測試百科網
中國儀器儀表學會分析儀器分會質譜儀器專家組
會議時間:2025年7月17日(全天)
會議地點:中國科學院上海應用物理研究所學術交流中心(上海市)
會議主題:半導體痕量成分檢測技術
擬邀對象:科研院所、高校專家學者,半導體產業鏈企業技術負責人,檢測儀器研發精英等。
官網鏈接:https://c.antpedia.com/64426/introduction.html
一、會議亮點
★ 主題報告:行業專家分享技術前沿與實踐案例
★ 專題研討:產學研多方共議國產儀器技術升級路徑
★ 交流對接:促進行業資源整合與合作
二、會議日程
| 時間 | 環節 | 擬邀嘉賓 |
| 08:30-09:00 | 簽到注冊 | 簽到處 |
| 09:00-09:05 | 開幕致辭 | 學會領導 |
| 09:05-09:20 | 雪迪龍與上海應用物理研究所揭牌儀式 | 中科院上海應物所領導(5分鐘) 雪迪龍領導(5分鐘) |
| 09:20-09:50 | 報告1:《高端儀器國產化路徑探索》 | 方 向 研究員 中國計量科學研究院 |
| 09:50-10:20 | 報告2:《從KORE到SDL:雪迪龍半導體解決方案》 | 張倩暄 副總工程師 雪迪龍 |
| 10:20-10:50 | 報告3:《SIMS在新能源材料領域應用》 | 汪福意 研究員 中國科學院化學研究所 |
| 10:50-11:00 | 茶歇 | |
| 11:00-11:30 | 報告4:《應物所SIMS平臺特色與典型成果》 | 汪 雪 技術專家 中科院上海應物所 |
| 11:30-12:00 | 報告5:《TOF-SIMS-An essential technique for a modern surface science laboratory》 | Steve 技術專家 KORE |
| 12:00-13:30 | 午餐休息 | |
| 13:30-14:00 | 報告6:《The practical use of TOF-SIMS for solving problems in materials science》 | Fraser 技術專家 KORE |
| 14:00-14:30 | 報告7:《ICP-MS在半導體與集成電路領域應用》 | 汪 正 研究員 中科院上海硅酸鹽研究所 |
| 14:30-15:00 | 報告8:《原位液相二次離子質譜及其新能源材料研發中的應用》 | 張燕燕 博士 中國科學院化學研究所 |
| 15:00-16:00 | 分組參觀SIMS實驗室 | |
| 16:00-17:00 | 閉門會議:《如何打破高端SIMS設備的“卡脖子"困局?》 | |
| 17:00 | 會議結束 | |
| 17:30-20:00 | 晚宴 |
三、會議聯系人
劉會蘭
電話:18942663827
郵箱:huilan_liu@antpedia.net
趙慧君
電話:17721272659
郵箱:huijun_zhao@antpedia.net
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中國物理學會質譜分會
北京雪迪龍科技股份有限公司
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