重慶電子科技職業大學 集成電路與電子元器件失效檢測公共服務中心設備采購(一期)項目
截止時間 2025-08-12 18:00
采購項目概況
本項目擬建設集成電路成品級和晶圓級的測試、集成電路失效分析實驗室,按照行業標準進行場地環節改造,并采購行業主流和技術先進設備主要包括:半導體曲線圖示儀、微光顯微鏡、鎖相紅外熱成像系統、超景深顯微鏡、3D X射線透射儀、場發射透射電子顯微鏡、雙束電子顯微鏡、集成電路自動測試系統、集成電路經典放電評估系統等設備。
(一)項目名稱:集成電路與電子元器件失效檢測公共服務中心設備采購(一期)
(二)放置位置:重慶市沙坪壩區大學城東路76號(大學城校區)、校外實訓基地(西永微電園)
(三)項目預算: 5200萬元
(四)交貨時間: 預計2025年10月
一、招標項目一覽表
序號 | 產品名稱(設備名稱) | 數量/單位 | 備注 |
1 | 超景深顯微鏡 | 1套 | 1.集成電路自動化測試系統、雙束電子顯微鏡、場發射透射電子顯微鏡為核心產品; 2.該包經批準可以采購進口產品。 |
2 | 集成電路自動化測試系統 | 1套 | |
3 | 半導體曲線圖示儀 | 1套 | |
4 | 3D X射線透射儀 | 1套 | |
5 | 集成電路靜電放電評估系統 | 1套 | |
6 | 集成電路開封系統 | 1套 | |
7 | 微光顯微鏡 | 1套 | |
8 | 雙束電子顯微鏡 | 1套 | |
9 | 鎖相紅外熱成像系統 | 1套 | |
10 | 場發射透射電子顯微鏡 | 1套 | |
11 | PIND測試系統 | 1套 | |
12 | 氦質譜檢漏儀 | 1套 |
二、招標項目技術需求
“*”標注的技術需求為重要技術需求,若不滿足將按照評標因素中相關規定處理。
“※”標注的技術需求為符合性審查中的實質性要求,若不滿足按無效投標處理。
(一)包1:
序號 | 設備名稱 | 規格型號 |
1 | 集成電路自動化測試系統 | 本設備包含SOC測試系統成品測試主機臺和晶圓測試主機臺、三溫機械手、射頻探針臺等配件 ※(1)SOC成品測試系統主機: ·通道數不低于48路;,每通道電壓范圍不低于0~7V; 每通道電流范圍:-200mA~1A,可并聯使用,并聯電流能力不低于4A;整板電流不小于48A,電壓最小測量精度不低于±10mV; ·256個數字引腳 /每卡 ·單端驅動,單端/差分接收 ·每個引腳基礎速率100Mbps, 配置16MVec存儲空間 ·通用存儲器 ·每個引腳一個時鐘域 ·每個引腳時序發生器基礎速率 400MHz ·邊沿分辨率 1pS,±100pS EPA ·最大負載電流≤25 mA (2)三溫機械手 ·溫度范圍 -65°C ~ +150°C ·覆蓋軍工、車規級芯片測試需求 ·定位精度 ±3~5μm 確保芯片與測試插座精準對接 ·傳輸速度 1~2秒/芯片(含溫穩時間) ·最大負載 1~5kg ·支持多芯片并行測試(如MCM封裝) ·溫變速率 ≥10°C/分鐘 (3)SOC晶圓測試機臺 通道數不低于48路;,每通道電壓范圍不低于0~7V; 每通道電流范圍:-200mA~1A,可并聯使用,并聯電流能力不低于4A;整板電流不小于48A,電壓最小測量精度不低于±10mV; ·128個數字引腳 /每卡 ·單端驅動,單端/差分接收 ·每個引腳基礎速率100Mbps, 配置16MVec存儲空間 ·通用存儲器 ·每個引腳一個時鐘域 ·每個引腳時序發生器基礎速率 400MHz ·邊沿分辨率 1pS,±100pS EPA ·最大負載電流≤25 mA3 ·每張板卡集成32個instrument ·64 雙向模擬pogo 端口,每端口配置PMU. ·高精度(HR) & 高速(HS)單元 ·所有instruments 可以由HW處理器控制,并行獨立地運行 ·使用內部觸發 & 同步 ·每個instrument 集成單獨的采樣時鐘 ·無需專門的校準設備(僅IQ 校準需專門的校準板) ·可以使用內置 2:1多路器引出AWG 或 DGT , 如果它們單獨被使用 (4)探針臺 支持半自動控制:(可手動測試,可自動測試) ?Chuck 每一個軸均帶0.1微米線性光柵尺 ?Chuck X-Y-Z 三軸行程分別為350mm*365mm*20mm ?Chuck最高移動速度:X,Y軸>70mm/S,Z軸> 20mm/S ?Chuck X,Y,Z向運動解析度:最小為0.1微米 ?Chuck往返重復精度:+-1μm ?Chuck 絕對定位精度:+-2μm ?Chuck角度旋轉范圍+-10° ?Chuck角度旋轉精度:0.0001° ?Chuck Theta往返重復精度:0.0005° ?Chuck Theta 絕對精度:0.001° ?溫度范圍 -55°C ~ +220°C ,測試溫度精度1.5℃ |
(二)包2:
序號 | 設備名稱 | 規格型號 |
1 | 超景深顯微鏡 | (1)顯微鏡變焦頭部:標準型電動變焦頭部; (2)光學系統:遠心光學系統,確保準確度和重復性; (3)綜合放大倍數:約 20X-2900X 倍(需結合實際使用的顯示器尺寸); ※(4)物鏡鏡頭: a. 1X 倍:工作距離 51.7mm,數值孔徑 0.03; b. 5X 倍: 工作距離 12mm,數值孔徑 0.15; c. 20X 倍: 工作距離 12mm,數值孔徑 0.4; (5)LED 壽命:60,000 小時(設計值); (6)聚焦行程:101mm 電動; (7)機架:傾斜型,傾斜角度: ±90°; (8)CCD 相機:DP75(內置),像素 1237 萬,最大幀率 60fps; (9)觀察方式 5 種:明場,暗場,偏光(DSX10-SXLOB1 物鏡不支持偏光觀察), 混合,偏斜式; (10)載物臺:電動,可旋轉,行程 100*100mm; (12)最大承重:5KG; (13)功耗:100–120V / 220–240 V, 1.1/0.54 A, 50 Hz/60 Hz |
2 | 半導體曲線圖示儀 | 1、電壓測量范圍 ±200 V 2、電流測量范圍 0.1 fA 至 1 A(需根據模塊選擇) 3、電容測量范圍 1 fF 至 10 μF 4、脈沖發生器 輸出電壓:±40 V;脈沖寬度:10 ns 至 100 μs 5、測量速度 最高 1000 點/秒(掃描模式下) 6、接口 GPIB、USB 2.0、LAN、觸發 I/O |
3 | 3D X射線透射儀 | 射線管 ※射線管類型:密閉式透射管,免維護保養、無需更換燈絲 ※特征分辨率:0.3μm 最大功率:20瓦 電壓:30-160千伏 探測器 探測器類型:CMOS平板探測器 分辨率:330萬像素 幀率:25Fps 像素點間距:70μm 數字圖像處理:16 bit 斜視角度:最大70° 減振系統:主動氣浮減振 ※最大檢查區:510*445mm ※最大樣本尺寸:736*580mm 最大幾何放大倍率:2500倍 最大綜合放大倍率:45000倍 最大樣品重量標準鋁托盤:5kg 顯示器:38英寸曲面屏顯示器,分辨率3840*1600 控制方式:鼠標鍵盤 軟件功能: 可針對圖像進行分析,對半導體片式器件、IC、QFP、SOP、SOT、QFN、BGA、直插器件,探針形貌等進行質量檢測或拍照; 可針對規則BGA產品進行編程,并自動計算氣泡; 可針對錫球的短路,偏移,錫量過多/過少、錫球變形/缺失,明顯空焊等缺陷進行快速定位; 可針對2D空焊分析、通孔插件、灌錫測量、錫球/芯片氣泡測量功能; 可進行注解功能,可在圖片上圈定,文字注解,編輯并存儲; 可編程完成全自動檢測并可保存及打印結果,可與其他計算機進行數據交換。 外殼全封閉式鉛屏蔽安全系統:X射線輻射泄漏量遠小于1uSv/hr,符合所有國際標準。 |
4 | 集成電路靜電放電評估系統 | 1、測試設備多達 768 針;系統配置為 128、256、384、512 或 768 通道 2、8 位點 HBM 脈沖源,100pF/1500Ω 3、人體模式:100pF/1500Ω 網絡,符合 ESDA、ESDA/JEDEC JS-001、MIL-STD 883 和 AEC Q100-002 規范,30V 至 8kV 4、機器模式:200pF/0Ω 網絡,符合 ESDA STM5.2、JEDEC JESD22-A115 和 AEC Q100-003,30V 至 1000V集成脈沖源允許快速執行多站點測試 5、符合 JEDEC JESD78 和 AEC Q100-004 6、允許用戶單獨定義每個引腳的 V/I 電平、一致性范圍和曲線走線參數 7、預應力、預失效 (ESD) 和失效后數據,以及全曲線跡線和特定數據點測量。可以導出數據以進行統計評估和呈現 8、工作溫度:+19°C至+22°C,非工作溫度 :10°C至+60°C ,濕度范圍 :30-60% 9、電源:90-250 V, 10A, 50/60 Hz |
5 | 集成電路開封系統 | 激光開蓋機 1、激光功率:10W 2、激光重復頻率:≥500KHZ 3、激光波長:1064nm 4、掃描范圍:≥110 x 110mm 5、最小線寬:0.1mm 6、掃描速度:≤12000mm/s 7、掃描深度:最大功率>1mm,最小功率<0.05nm 8、重復精度:0.01mm 9、電力需求:220v(±10%)/50Hz/15A 10、冷卻方式:風冷 研磨機 1、轉速自由調節50-1500 2、雙盤雙控,無級變速 3、雙冷卻潤滑系統" 化學槽 |
6 | 微光顯微鏡 | 主機性能 1、適用范圍:適用于芯片級別的分析;200mm或者300mm尺寸晶圓、切割后的芯片、封裝后的芯片、帶硅襯底的芯片 2、相機接口:可接單相機或者雙相機 3、鏡頭轉輪:5孔全自動透鏡轉輪,由軟件直接選擇將使用的照相機 4、最小步進精度:X軸:0.1um,Y軸:0.1um,Z軸:0.1um 5、重復精度:X軸:±1um,Y軸:±1um,Z軸:±1um 6、光學系統移動范圍:X軸:±20mm,Y軸:±20mm,Z軸:80mm 7、減震裝置:空氣氣墊浮臺 8、光學系統支持最多5種光源配置,可以擴展1300nm/1100nm/900nm/532nm/Laser marker 9、具備探針觀察相機,可實現觸摸或者軟件觀察探針放置狀態 10、實驗室環境條件改造要求 工作溫度:15℃-25℃ 工作濕度:35%~60% 壓縮空氣要求壓力:0.5MPa-0.7MPa 儀器運行持久性:儀器可連續使用 潔凈度:十萬級及以上 |
7 | 雙束電子顯微鏡 | 電子光學: ? 電子束減速,樣品臺偏壓 0 V 到 -4 kV ? 電子源壽命至少 12 個月 ※電子束分辨率 ? 在最佳工作距離下: – 30 kV 下STEM 0.6 nm – 15 kV 下 0.6 nm – 1 kV 下 1.0 nm – 1 kV 下 0.9 nm (電子束減速模式) ? 在束重合點: – 15 kV 下 0.6 nm – 1 kV 下 1.5 nm ※電子束參數 ? 電子束流范圍:0.8 pA - 176 nA ? 加速電壓范圍:200 V - 30 kV ? 著陸能量范圍: 20 eV - 30 keV ? 最大水平視場寬度:4 mm 工作距離下為 2.3 mm 離子光學 Tomahawk HT 離子鏡筒,卓越的大束流性能 ? 離子束流范圍:1 pA – 100 nA ? 加速電壓范圍:500 V - 30 kV ? 兩級差分抽吸 ? 飛行時間(TOF)校準 ? 15 孔光闌 ? 最大水平視場寬度:在束重合點處為 0.9 mm ? 離子源壽命至少 1,000 小時 離子束分辨率(在重合點處) – 30 kV下 4.0 nm(采用首選統計方法) – 30 kV下 2.5 nm(采用選邊法) |
8 | 鎖相紅外熱成像系統 | 主機部分 : (1)適用范圍:適用于芯片級別的分析;200mm或者300mm尺寸晶圓 切割后的芯片 封裝后的芯片 帶硅襯底的芯片 (2)相機接口:可接單相機或者雙相機 (3)鏡頭轉輪:5孔全自動透鏡轉輪,由軟件直接選擇將使用的照相機 (4)最小步進精度:X軸:0.1um,Y軸:0.1um,Z軸:0.1um (5)重復精度:X軸:±1um,Y軸:±1um,Z軸:±1um (6)光學系統移動范圍:X軸:±20mm,Y軸:±20mm,Z軸:80mm (7)減震裝置:空氣氣墊浮臺 (8)光學系統支持5種光源配置,可以擴展1300nm/1100nm/900nm/532nm/Laser mark (9)具備探針觀察相機,可實現觸摸或者軟件觀察探針放置狀態 |
9 | 場發射透射電子顯微鏡 | 加速電壓: 200 kV;點分辨率:0.25 nm;信息分辨率: 0.12 nm |
10 | PIND測試系統 | 振幅:5.0至25.0’G’峰值,Windows視窗顯示 |
11 | 氦質譜檢漏儀 | 氦氣最小泄漏檢測率(真空法) mbar?L/s < 5·10-12 |
1-采購需求調查公告-集成電路與電子元器件失效檢測公共服務中心設備采購(一期).docx
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