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  • 發布時間:2022-11-07 11:03 原文鏈接: 高功率薄片激光器基橫模輸出有了新方法

    近日,中國科學院大連化學物理研究所研究員李剛、研究員金玉奇團隊在薄片激光器光束質量控制研究方面取得新進展。團隊提出了一種在全泵浦功率范圍內使薄片激光器連續輸出并保持光束質量接近衍射極限的新方法,并對其光束質量控制機理進行了深入研究。相關研究成果發表在《光學快報》Optics Express上。

    薄片激光器是一種半導體泵浦的、增益介質為薄片狀晶體的新型固體激光器。薄片激光器同時具備高平均功率、高脈沖能量、高光束質量的特性,在EUV光源、光學頻率梳和阿秒脈沖產生、激光微加工以及國防領域具有重要應用前景。然而,薄片激光器中最核心的多通泵浦薄片模塊技術常年為國外所壟斷,且72通泵浦模塊對國內禁售。

    本工作中,科研人員提出了一種薄片激光多通泵浦方案,并設計制造了自主知識產權的72通泵浦模塊,以此為基礎開發了一種在全泵浦功率范圍內使薄片激光器輸出激光的光束質量保持衍射極限的方法。該方法的核心是通過將薄膜偏振片和四分之一波片組合成一個新型輸出耦合器,從而實現激光諧振腔的輸出耦合率連續線性可調。通過實時調諧諧振腔的輸出耦合率,在整個入射泵浦功率范圍內都獲得了接近衍射極限的光束質量(M2<1.2),平均輸出功率超過210W。科研人員通過諧振腔衍射損耗模擬仿真給出了光束質量控制機理。對于類似通過衍射損耗實現基模橫輸出的諧振腔,連續可變輸出耦合器在增強薄片激光器輸出性能方面有著良好的應用前景,這為將來的千瓦級納秒激光器和焦耳級皮秒激光放大器的研制奠定了良好的基礎。

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