| 儀器名稱： | LAB18薄膜沉積系統 |
| 儀器編號： | 12028282 |
| 產地： | 中國 |
| 生產廠家： | Kurt |
| 型號： | KJLC |
| 出廠日期： | 201204 |
| 購置日期： | 201212 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 半導體工藝 集成電路 微納加工 磁控濺射 |
| 技術指標： | 金屬及氧化物材料磁控濺射：包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等；本底真空：10E-8Torr |
| 知名用戶： | 錢鶴研究員，吳華強研究員，伍曉明研究員，王敬研究員，陳煒研究員等。 |
| 技術團隊： | 吳華強副教授，伍曉明副教授，竇維治支持工程師，韓冰設備工程師，李志東工藝工程師 |
| 功能特色： | 該設備的特點如下：本底真空可達到10E-8Torr量級；基片溫度可以控制在室溫~550℃；可對基片進行等離子體清洗；可實現6英寸及以下尺寸的硅片的濺射鍍膜；濺射鍍膜的粘附性好，片內均勻性能夠達到5%以下；可對多種材料進行濺射，目前主要有金屬、氧化物和氮化物薄膜，包括Pt、Ti、Al、Cr、Hf、Ta、Nb、V、Ni、Co、Pd、Al2O3、HfO2、Ta2O5、Nb2O5、NbO2、V2O5、TiN、W等 |
