芯源公司“集束型勻膠顯影設備”獲遼寧優秀新產品二等獎
芯源公司“集束型勻膠顯影設備”獲遼寧省優秀新產品二等獎 近日，經第八屆遼寧省優秀新產品獎評審委員會審查，省政府批準，中科院沈陽自動化研究所持股公司芯源公司申報的“集束型勻膠顯影設備”被授予遼寧省優秀新產品二等獎。在本屆遼寧省新產品評選中，共有31項產品獲得一等獎，二等獎59項。評選省級優秀新產品獎旨在鼓勵和支持企業研制開發技術含量高、附加值高的新產品，掌握具有自主知識產權的新技術，推進企業技術進步，加速全省產品結構優化和產業升級。 沈陽自動化所持股公司—芯源公司的主導產品勻膠顯影設備是集成電路制造關鍵設備之一，其作用是在晶圓上涂敷光刻膠，與光刻機配合，曝光后顯影，保證掩膜版圖形的正確轉印。在芯源公司創建之前，國內的勻膠顯影設備處于6英寸0.5微米技術等級。芯源公司通過引進消化與集成創新，擁有了完全自主知識產權的整機技術，研制的8英寸勻膠顯影設備可滿足0.25，0.18，0.13微米集成電路制造工藝，填補了國......閱讀全文
芯源公司“集束型勻膠顯影設備”獲遼寧優秀新產品二等獎
芯源公司“集束型勻膠顯影設備”獲遼寧省優秀新產品二等獎 近日，經第八屆遼寧省優秀新產品獎評審委員會審查，省政府批準，中科院沈陽自動化研究所持股公司芯源公司申報的“集束型勻膠顯影設備”被授予遼寧省優秀新產品二等獎。在本屆遼寧省新產品評選中，共有31項產品獲得一等獎，二等獎59項。評選省
全自動勻膠顯影系統簡介
全自動勻膠顯影系統是一種用于信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，于2019年12月5日啟用。 技術指標 襯底支持：4英寸，6英寸基片。7個可獨立進行控溫的熱板，高精度熱板溫度精度+/-0.2℃。勻膠單元每個Cup配置4條光刻膠管路，具備背洗、邊緣清
300mm晶圓勻膠顯影設備研發成功
4月14日，“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”國家科技重大專項“300mm晶圓勻膠顯影設備研發”任務圓滿完成，突破了193nm光刻工藝超薄膠膜均勻涂敷等多項關鍵核心技術，成功研制出具有自主知識產權的300mm晶圓勻膠顯影設備考核測試機和上線示范應用機，并在項目實施期間銷售5臺勻膠顯影設備。
什么叫正膠顯影和負膠顯影
正膠顯影：正性光刻膠的曝光區的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。負膠顯影：在負性光刻膠的非曝光區的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形。正膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率，其他特性如，臺階覆蓋好、對比度好；粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。負膠的特性為，具有良好的
勻膠機
旋轉涂層機/勻膠機/勻膠儀旋涂儀/甩膠機/旋涂機? 型號:MHY-26227產品簡介：MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀? ? ??主要用于液體，膠體在材料表面形成薄膜。? ? ? MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀 適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不銹鋼，金屬等制版表面涂覆工藝。? ? ? MH
自動滴膠勻膠機
自動滴膠勻膠機/真空旋轉涂層機 ?型號：MHY-29071MHY-29071產品簡介：主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝。可在科研，教育，生產中應用。?MHY-29071主要特點：1可設定存儲26個不同樣片的旋轉涂敷工藝過程。2每個涂敷工藝過程可以
勻膠機概述
勻膠機主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。 送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100—9900轉/分（±10轉/分），起動加速度可調。每道程序的持續時間，轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等工藝參數均可通過編程控制。 勻膠機
勻膠機的原理
勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。 概述 該設備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。 送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動
勻膠機的特點
從其原理來說，勻膠機有以下兩個特點。 （1）旋轉速度 轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。轉速控制方面有國際認定標準，如美國NIST標準等。 （2）真空吸附系統 真空
勻膠機的選購技巧
怎么選購勻膠機，從其原理來說需要注意的幾個細節： 旋轉速度 轉速的快慢和控制精度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。國產的某些勻膠機只能提供轉速范圍，并不能精確標定實時的轉速。進口的勻膠機雖
勻膠儀旋涂儀
旋轉涂層機/勻膠機/勻膠儀旋涂儀/甩膠機/旋涂機? 型號:MHY-26227產品簡介：MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀? ? ??主要用于液體，膠體在材料表面形成薄膜。? ? ? MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀 適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不銹鋼，金屬等制版表面涂覆工藝。? ? ? MH
勻膠機的主要介紹
勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100-9900轉/分(±10轉/
勻膠機的操作步驟
1、片托選擇合適的（相比于樣片尺寸略小），使缺口與螺釘對準。在安裝片托時必須要到底。 2、將電源開啟，將控制鍵按下。 3、將勻膠時間和轉速調節合適，轉速為低速,轉速Ⅱ為高速。 4、值得注意的是放片要放正。 5、將“吸片”鍵按下，抽氣開始，值得注意的是在將“吸片”鍵按下以前，轉速電位器上的
勻膠機的分類選型
勻膠機是在旋轉的基片上，滴注膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。選購技巧從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節旋轉速度轉速的快慢和控制直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速大。真空吸附系統的構
勻膠機應用流程剖析講解
勻膠旋涂全過程按基片轉動速率及膠原纖維的轉變，分好多個環節：滴膠，加快轉動攤膠，均速轉動勻膠及其去邊，在其中第 3 環節均速轉動環節是膠原纖維鍍層薄厚和勻稱性操縱的關鍵環節。 1.滴膠 在滴膠前，膠質需歷經亞微米級別的過慮解決，不然塑料薄膜有將會產生彗星圖，星狀圖，戒造成汽泡。滴膠環
EVG高級勻膠系統共享
儀器名稱：高級勻膠系統儀器編號：04001156產地：奧地利生產廠家：EVG型號：EVG101C出廠日期：200303購置日期：200403所屬單位：物理系>納米中心>納米中心加工平臺放置地點：納米樓超凈間固定電話：62796022固定手機：18701647330固定email：andong3014
勻膠機使用步驟分析解讀
勻膠旋涂過程按基片旋轉速度及膠質的變化，分幾個階段：滴膠，加速旋轉攤膠，勻速旋轉勻膠以及去邊，其中第?3?階段勻速旋轉階段是膠質涂層厚度和均勻性控制的重要階段。1.滴膠在滴膠前，膠質需經過亞微米級別的過濾處理，否則薄膜有可能形成彗星圖，星狀圖，戒產生氣泡。滴膠階段是將膠質溶劑沉積在基片上中心位置的過
簡述勻膠機使用小技巧
1、依次接上 真空泵的導氣管、廢液接收罐、廢液接收罐上方是排廢氣的軟管。 2、充氮 N2/干燥氣體 CDA 的連接，一般這個細管（如上圖 4 所示，口徑為 6mm）需要接到氮氣瓶或者實驗室已有的氮氣接口。 3、氮氣瓶的接口如下圖所示，這種接口是箍橡皮管，需要換成找轉接頭接上旋涂儀的 6mm
智能程控勻膠機有哪些特點？
1、 機身選用耐酸堿、耐沖擊、耐腐蝕不銹鋼、永不生銹，便于清洗。 2、 采用全色7英寸觸摸屏控制面板，直觀簡單更方便操作。 3、 圖形顯示即時旋涂速度和時間，設置的參數旋涂過程一目了然。（圖1） 4、內置電腦控制，Windows操作界面，USB接口與打印機等外部設備連接（可選）。 5、不
旋轉勻膠機相關內容
旋轉勻膠機是一種用于工程與技術科學基礎學科領域的計量儀器，于2014年12月12日啟用。 技術指標 可以自動定量滴加光刻膠（支持的光刻膠年度在10cp-500cp）,也可以實驗手動滴加光刻膠；勻膠的時間可以在0.1s到999s范圍內調整且連續；滿足旋涂3mm到150mm直徑范圍的樣品；穩定的
操作勻膠機的注意事項
1、在每次開機以前，值得注意的是要抬起控制鍵以及吸片鍵，將電源開啟以后，分別將各鍵按下進行操作，從而使沒有啟動電機就轉動得以避免。 2、片子尺寸不一樣，選用的片托的尺寸也不一樣，厚度低于1.5毫米的片子對帶吸氣槽的片托進行選用，厚度高于1.5毫米的片子，對O型圈的片托進行選用。 3、相比于片
MHY29071高精度自動滴膠勻膠機旋涂儀
自動滴膠勻膠機/真空旋轉涂層機 ?型號：MHY-29071MHY-29071產品簡介：主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝。可在科研，教育，生產中應用。?MHY-29071主要特點：1可設定存儲26個不同樣片的旋轉涂敷工藝過程。2每個涂敷工藝過程可以
智能程控勻膠機簡介和技術指標
智能程控勻膠機是高精密的旋轉涂膜儀。主要為高等院校、科研院所、研發中心等進行研究，開發各種功能薄膜所用。適用于半導體硅片、晶片、ITO導電玻璃、光學玻璃、生物薄膜、制版等工藝表面涂覆。 技術指標 鍍膜時間設置： 1～9999 sec/ step 旋涂速度：0～ 5,000 rpm 旋涂加
型恒溫混勻儀的參數
型號 HX-20TL 溫度范圍 0℃~100℃(環境溫度≤20℃下檢測) 時間設置 1min-100h 模塊溫度均勻性 ≤±0.3℃ 控溫精度 ±0.5℃ 顯示精度 0.1℃ 振蕩速度 200~1800rpm 振蕩幅度 2-3mm（水平回轉） 升溫時間 ≤15m
MHY26227高性能勻膠機旋涂儀
旋轉涂層機/勻膠機/勻膠儀旋涂儀/甩膠機/旋涂機? 型號:MHY-26227產品簡介：MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀? ? ??主要用于液體，膠體在材料表面形成薄膜。? ? ? MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀 適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不銹鋼，金屬等制版表面涂覆工藝。? ? ? MH
MHY26227高性能勻膠機旋涂儀
旋轉涂層機/勻膠機/勻膠儀旋涂儀/甩膠機/旋涂機? 型號:MHY-26227產品簡介：MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀? ? ??主要用于液體，膠體在材料表面形成薄膜。? ? ? MHY-26227高性能勻膠機旋涂儀 適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，不銹鋼，金屬等制版表面涂覆工藝。? ? ? MH
快速了解勻膠機旋涂儀的工作原理
勻膠過程介紹一個典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不
勻膠熱板一體機相關內容
勻膠熱板一體機是一種用于材料科學、機械工程、自然科學相關工程與技術、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2019年5月27日啟用。 技術指標 最大可完成8英寸晶圓的勻膠烘烤，向下兼容；Windows操作系統，PC控制；密碼設定保護。 勻膠機：最大轉速12000 rpm，轉速精度
勻膠機選購需不容忽視的的3個細節
勻膠機有很多種稱謂，英文叫SpinProcessor或者SpinCoater，又稱甩膠機、勻膠臺，既在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。 下面給大家分享3各勻膠機購買時需注意的3個
wb顯影液顯影原理
相紙、膠卷表面保護基下,是溴化銀涂層(還有其他的從略),溴化銀見光分解,顯影液與其發生化學反應,分解析出。 拍照好的底片,圖像在上面明暗不同,分解程度也就不一樣了。沖洗出來就是底片。