中國第一屆ALD學術交流會在上海成功舉行

　　2010年10月18日-10月19日在上海舉辦的中國第一屆ALD學術交流會成功舉行!

　　這次大會是由芬蘭PICOSUN公司和復旦大學主辦，南京大學、中國科學院上海技術物理研究所、上海納米技術及應用國家工程研究中心和北京正通遠恒科技有限公司聯合承辦， 這次會議我們非常榮幸得邀請到ALD技術方面很多資深的教授及研究者來做報告，旨在方便中國優秀科研工作者交流分享ALD技術的最新研究進展和相關領域的研究成果。　　

　　大會合影　　

　　ALD技術發明人Dr. Tuomo Suntola――ALD for Advanced Semiconductor and Nanotechnology Manufacturing　　

　　張衛教授――ALD High-k Materials for Gate Oxide and Memory　　

　　Prof.Mikko Ritala――ALD Chemistry: Overview and Future Challenges/ALD in Optical Applications　　

　　李愛東教授――Atomic Layer Deposition of Dielectric Films and Their Applications　　

　　陳鑫教授――Preparation, Assembly and Applications of Nanostructures　　

　　分會主持人――劉紅俠教授　　

　　丁士進教授――Atomic-layer-deposited High-k Dielectrics for High Density Metal-insulator-metal Capacitors　　

　　王宏濤教授――Atomic Layer Deposition of Oxides for Microelectronics　　

　　Jarmo E. Heinonen――Science, Technology and Innovation Cooperation between China and Finland　　

　　Mr. Juhana Kostamo――Burgeoning ALD Technology and Market Outlook　　

　　黎微明博士――Design Considerations of ALD Reactor for Bridging the Research and Production　　

　　現場氣氛很活躍　　

　　Question and Answer　　

　　北京正通遠恒科技有限公司總經理劉斌先生做最后總結