磁控濺射的相關介紹
磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。 在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射的過程。......閱讀全文
磁控濺射的相關介紹
磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺
磁控濺射原理的相關介紹
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產生的二次電子會受到電場和磁場作用，
磁控濺射種類的介紹
磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。 靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多
磁控濺射技術應用的現狀
磁控濺射技術不僅是科學研究和精密電子制造中常用的薄膜制備工藝技術，經過多年的不斷完善和發展，該技術也已經成為重要的工業化大面積真空鍍膜技術之一，廣泛應用于玻璃、汽車、醫療衛生、電子工業等工業和民生領域。例如，采用磁控濺射工藝生產鍍膜玻璃，其膜層可以由多層金屬或金屬氧化物祖成，允許任意調節能量通過
磁控濺射技術的工藝歷史發展
1852年，格洛夫發現了陰極濺射，由于該方法要求工作氣壓高、基體溫升高和沉積速率低等，陰極濺射在生產中并沒有得到廣泛的應用。20世紀三十年代，J.Chapin發明了平衡磁控濺射，使高速、低溫濺射成為現實，磁控濺射真正意義上發展起來。 上世紀五十年代Schneider等采用離化濺射和平衡磁控濺射
磁控濺射鍍膜機共享
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
金屬多靶磁控濺射機
金屬多靶磁控濺射機是一種用于電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，于2014年1月1日啟用。 1）真空系統：復合分子泵+直聯旋片無油機械泵抽真空系統；真空極限：優于5.0×10E-5Pa ；抽速：從大氣開始抽氣，濺射室25分鐘可達到10E-4Pa；系統漏率≤ 5×10-7PaL/s，系統停泵關機1
磁控濺射鍍膜機共享應用
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
全自動磁控濺射系統共享應用
儀器名稱：全自動磁控濺射系統儀器編號：12024341產地：中國生產廠家：金盛微納科技有限公司型號：MSP-150B出廠日期：201112購置日期：201211所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：劉建設（,,zh
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀
超高真空多靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于物理學領域的物理性能測試儀器，于2010年2月21日啟用。 技術指標 雙室磁控濺射系統，極限壓力：主濺射室，6.67*10-6Pa，2、永磁靶5套，三個直流電源，兩個射頻電源，靶材直徑60mm；3、6個樣品工位，尺寸直徑30mm，基片加熱最高600度，退火
多靶位磁控濺射系統共享應用
儀器名稱：多靶位磁控濺射系統儀器編號：21012328產地：美國生產廠家：科特·萊斯科公司型號：PVD75出廠日期：購置日期：2021-07-12所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：62781090固定手機：13661079620固定email：
AJA－真空互聯磁控濺射鍍膜機共享應用
儀器名稱：真空互聯-磁控濺射鍍膜機儀器編號：20004165產地：美國生產廠家：AJA型號：ATC-2200-UHV SPUTTER SYSTEM出廠日期：購置日期：2020-06-05項目名稱計價單位費用類別價格備注材料濺射元/小時自主上機機時費460.0Au等貴金屬加收100元/10nm所屬單位
金盛微全自動磁控濺射系統共享
儀器名稱：全自動磁控濺射系統儀器編號：12024341產地：中國生產廠家：金盛微納科技有限公司型號：MSP-150B出廠日期：201112購置日期：201211所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：劉建設（,,zh
清華大學儀器共享平臺磁控濺射鍍膜機
儀器名稱：磁控濺射鍍膜機儀器編號：13001328產地：中國生產廠家：創世威納科技公司型號：MSP-3200T出廠日期：201301購置日期：201301所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：一樓平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：魏治乾（010-62781090,19
紅細胞相關的病癥的相關介紹
紅細胞增多癥（Polycythemia）以紅細胞數目、血紅蛋白、紅細胞壓積和血液總容量顯著地超過正常水平為特點。兒童時期血紅蛋白超過180g/L（16g/dl），紅細胞壓積大于55%和每公斤體重紅細胞容量絕對值超過35ml，排除因急性脫水或燒傷等所致的血液濃縮而發生的相對性紅細胞增多，即可診斷。
磁控濺射技術設計合成ZrN/WN和CrN/ZrN納米多層膜
本文在Si（100）基底表面上分別利用超高真空射頻磁控濺射技術（ultra-high vacuum rf magnetron sputtering system）設計合成ZrN／WN納米多層膜，利用非平衡直流磁控雙靶交替反應濺射技術（unbalanced dual-cathode dc reacti
制粒機的相關介紹
制粒機主要由喂料、攪拌、制粒、傳動及潤滑系統等組成,在制藥、化工、食品工業廣泛應用。 制粒機制粒快、效果好，設計特殊孔的濾網，仔細篩濾，其摩擦濾網桿能扎碎篩濾堅固粒子，在制藥、化工、食品工業廣泛應用。該機能替代搖擺式 顆粒機，是新一代的顆粒設備。
穆斯堡爾譜儀的相關介紹
穆斯堡爾譜儀用于測定物質γ射線無反沖共振吸收效應的儀器。其基本原理是：由放射源（γ光源）射出的γ光子被樣品中存在的穆斯堡爾核（如57Fe，119Sn）所吸收，形成共振吸收譜，樣品中穆斯堡爾核與核外化學環境的相互作用會引起共振吸收譜線的位置、形狀、數目的 變化。反過來利用所測穆譜的這些變化推出穆核
自吸泵的相關介紹
自吸泵屬自吸式離心泵，它具有結構緊湊、操作方便、運行平穩、維護容易、效率高、壽命長，并有較強的自吸能力等優點。管路不需安裝底閥，工作前只需保證泵體內儲有定量引液即可。不同液體可采用不同材質自吸泵。 自吸泵的工作原理是水泵啟動前先在泵殼內灌滿水（或泵殼內自身存有水）。啟動后葉輪高速旋轉使葉輪槽道
激振器的相關介紹
激振器（vibration exciter）是附加在某些機械和設備上用以產生激勵力的裝置，是利用機械振動的重要部件。激振器能使被激物件獲得一定形式和大小的振動量，從而對物體進行振動和強度試驗，或對振動測試儀器和傳感器進行校準。激振器還可作為激勵部件組成振動機械，用以實現物料或物件的輸送、篩分、密
微壓計的相關介紹
微壓計是丈量細小壓力、負壓或差壓的壓力計，這類外表靈敏度、度都很高，一般可到0.1mm； 有的還能夠到達雙液U形管壓力計雙液U形管壓力計可用于丈量空氣或其它氣體的微正壓； 負壓或差壓，兩頭液柱的讀值加總即為丈量值；移動刻劃尺即可作零點調整。 形管微壓計形管微壓計一、加工
量瓶的相關介紹
是一種細頸梨形平底瓶，由無色或棕色玻璃制成，帶有磨口玻璃塞或塑料塞。頸上刻有一環形標的是量入式量器，表示在所指溫度下（一般為20℃）液體充滿至標線時的容積。容量瓶的用途是配制準確精度的溶液或定量地稀釋溶液。該量瓶常和移液管配合使用。頸上有標線，表示在所指溫度下液體充滿到標線時，溶液體積恰好與瓶上
斬波器的相關介紹
直流斬波器又稱為截波器，它是將電壓值固定的直流電，轉換為電壓值可變的直流電源裝置，是一種直流對直流的轉換器 已被廣泛使用，如直流電機的速度控制、交換式電源供應器(Switching-Power-Supply)等。 直流斬波是將固定的直流電壓變換成可變的直流電壓，也稱為DC/DC變換。 斬波
電爐的相關介紹
電爐（electric furnace）是指引利用電熱效應供熱的工業電爐和家用電爐。工業電爐又分為電阻爐、感應爐兩種，隨著現代工業技術的發展感應爐成為電爐中最為節能的電轉換加熱方式，廣泛應用家庭、醫藥、化工、冶金、等多個領域。電爐具有快速加熱、容易控制溫度、熱效率高等特點。
移液器的相關介紹
移液器也叫移液槍，是在一定量程范圍內，將液體從原容器內移取到另一容器內的一種計量工具。被廣泛用于生物、化學等領域。中文名：移液器，外文名：locomotive?pipette基本結構移液器在臨床實驗室中因為基本結構簡單，使用方便等原因而得到廣泛應用。其基本結構主要有顯示窗、容量調節部件、活塞、0-形
葉綠體的相關介紹
葉綠體（Chloroplast）是質體的一種，是高等植物和一些藻類所特有的能量轉換器。其雙層膜結構使其與胞質分開，內有片層膜，含葉綠素，故名為葉綠體。 葉綠體是含有綠色色素（主要為葉綠素 a 、b）的質體，為綠色植物進行光合作用的場所，存在于高等植物葉肉、幼莖的一些細胞內，藻類細胞中也含有。葉
移液器的相關介紹
移液器使用 步驟/方法：?1、如液體不小心進入活塞室應及時清除污染物;??2、移液器使用完畢后，把移液器量程調至zui大值，且將移液器垂直放置在移液器架上;??3、避免放在溫度較高處以防變形致漏液或不準; ??4、根據使用頻率所有的移液器應定期用肥皂水清洗或用60 %的異丙醇消毒，再用雙 蒸水清洗并
乙肝相關性腎炎的相關介紹
乙型肝炎相關性腎小球腎炎(hepatitis B virus associated glomerulone nephritis)是指由乙型肝炎病毒(HBV)直接或間接誘發的腎小球腎炎。本病曾稱為乙型肝炎腎炎、乙型肝炎免疫復合物腎炎、乙型肝炎病毒抗原相關性腎炎等。我國是HBV感染的高發區，人群HB
清華大學儀器共享平臺金盛微納－全自動磁控濺射系統
儀器名稱：全自動磁控濺射系統儀器編號：12024341產地：中國生產廠家：金盛微納科技有限公司型號：MSP-150B出廠日期：201112購置日期：201211所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：劉建設（,,zh
我國學者利用磁控濺射技術提升鋅基電池庫倫效率與壽命
近日，中科院大連化物所儲能技術研究部（DNL17）李先鋒研究員、張華民研究員團隊，提出了一種利用磁控濺射技術在3D多孔碳氈電極上濺射金屬錫層的策略，在水系鋅基電池中實現了對鋅沉積形貌的誘導，有效降低了鋅的電化學沉積過電位，緩解了鋅枝晶的生長，使鋅基電池的庫倫效率與循環壽命顯著提升。 鋅負極具有