聚焦離子束技術使電鏡分析從二維走向三維
人類對于微觀世界的認知有著漫長的歷史。自300年前第一臺顯微鏡問世以來，人們便開啟了探索微觀世界的大門。隨著科學技術的發展，光學顯微鏡、透射電子顯微鏡和掃描電鏡逐漸作為工具被人們熟知，并且，應科學發展的需求，各項技術均在不斷的創新與發展。如今，作為材料分析的重要工具，電鏡技術已廣泛應用于材料、化工、醫學、生物等多個領域。整體而言，電鏡技術發展到今天，在技術上獲得極大的發展，主要表現在幾個方面，來自武漢大學電子顯微鏡中心主任王建波對此進行了簡單介紹：第一，核心技術空間分辨率越來越高，借助輔助的技術手段，已經可以提供多尺度和多維度的信息；第二，計算機技術介入電鏡領域，帶來速度上的飛躍。正是結合了計算機技術，漂移校正變得簡單，數據處理、記錄、轉移等方面速度變快，大大提高了分析的速率；第三，多種新型探測技術如CMOS等技術的出現，使電鏡技術的動態響應范圍、分析速度等獲得革命性提高；第四，電場、光場、力場等外場技術的聯用，可聯合表征某些曾......閱讀全文
加速離子束的裝置
從離子源獲得的離子束的能量一般從幾百電子伏到幾萬電子伏。因為用高引出電壓方式獲得較高能量的離子束受到擊穿的限制，所以必須使離子在電場和磁場中加速,這類裝置叫做加速器(見粒子加速器) 使用各種加速器可以使離子獲得很高的能量（如幾百吉電子伏），也可以使離子減速，以獲得能量較低的（如幾十電子伏）但流強
離子束切割拋光儀
離子束切割拋光儀是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器，于2018年5月23日啟用。 技術指標 拋光角度: +10° 到 -10° ，每個離子槍可獨立調節 離子束能量: 100 V 到 8.0 kV 離子束流密度: 10 mA/cm2 峰值 拋光速度: 300 μm/h（8.0 kV條件下對于
聚焦離子束的工作原理
液態金屬離子源離子源是聚焦離子束系統的心臟，真正的聚焦離子束始于液態金屬離子源的出現，液態金屬離子源產生的離子具有高亮度、極小的源尺寸等一系列優點，使之成為目前所有聚焦離子束系統的離子源。液態金屬離子源是利用液態金屬在強電場作用下產生場致離子發射所形成的離子源[1、2]。液態金屬離子源的基本結構如圖
【分享】FIB－聚焦離子束分析
FIB介紹聚焦離子束技術（Focused Ion beam，FIB）是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面，實現材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚
Zeiss－FIB聚焦離子束－共享
儀器名稱：聚焦離子束 Zeiss FIB儀器編號：16005806產地：德國生產廠家：蔡司型號：Auriga出廠日期：201506購置日期：201603所屬單位：材料學院>材料中心 >電鏡中心放置地點：主樓東配樓11-112固定電話：固定手機：固定email：聯系人：王永力（010-62773015
聚焦離子束系統知多少？
納米科技是當今國際上的一個熱點。納米測量學在納米科技中起著信息采集和分析的不可替代的重要作用，納米加工是納米尺度制造業的核心，發展納米測量學和納米加工的一個重要方法就是電子束，離子束技術。近年來發展起來的聚焦離子束納米加工系統用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，結合掃描電子顯微鏡實時觀察，開辟了從
聚焦離子束的工作原理
液態金屬離子源離子源是聚焦離子束系統的心臟，真正的聚焦離子束始于液態金屬離子源的出現，液態金屬離子源產生的離子具有高亮度、極小的源尺寸等一系列優點，使之成為目前所有聚焦離子束系統的離子源。液態金屬離子源是利用液態金屬在強電場作用下產生場致離子發射所形成的離子源[1、2]。液態金屬離子源的基本結構如圖
聚焦離子束（FIB）技術介紹
1.引言?????隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚焦離子束（FIB）技術利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，配合掃描電鏡（SEM）等高倍數電子顯微鏡實時觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目
聚焦離子束的工作原理
?? 液態金屬離子源離子源是聚焦離子束系統的心臟，真正的聚焦離子束始于液態金屬離子源的出現，液態金屬離子源產生的離子具有高亮度、極小的源尺寸等一系列優點，使之成為目前所有聚焦離子束系統的離子源。液態金屬離子源是利用液態金屬在強電場作用下產生場致離子發射所形成的離子源[1、2]。液態金屬離子源的基本結
聚焦離子束技術（FIB）技術應用
?? 聚焦離子束技術（Focused Ion beam，FIB）是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面，實現材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚焦離
TEM制樣聚焦離子束法
聚焦離子束法適用于半導體器件的線路修復和精確切割。聚焦離子束系統（FIB），利用源自液態金屬鎵的離子束來制備樣品。通過調整束流強度，FIB可以對樣品的指定區域進行快速和極精細的加工。其匯聚掃描方式可以是矩形、線形或點狀。FIB可以制備供掃描透射電鏡觀測用的各種材料的薄膜樣品。
Zeiss－FIB聚焦離子束共享應用
儀器名稱：聚焦離子束 Zeiss FIB儀器編號：16005806產地：德國生產廠家：蔡司型號：Auriga出廠日期：201506購置日期：201603所屬單位：材料學院>材料中心 >電鏡中心放置地點：主樓東配樓11-112固定電話：固定手機：固定email：聯系人：王永力（010-62773015
離子源的應用離子束
離子源是用以獲得離子束的裝置。我們知道，在各類離子源中，用得最多的是等離子體離子源，即用電場將離子從一團等離子體中引出來。這類離子源的主要參數由等離子體的密度、溫度和引出系統的質量決定。屬于這類離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙等離子體源、富立曼離子源等。另一類使用較多的離子
液質聯用的離子束接口介紹
離子束接口（ particle-beam interface,PB ） 是從單分散 氣溶膠界面（monodisperse aerosol generating interface for chromatography, MAGIC）發展來的。該接口將液相色譜的流動相在 常壓下借助氣動霧化產生氣溶
聚焦離子束（FIB）直寫技術研究
現代半導體制造業迅速發展，對產品的質量要求越來越高，對相關的微分析技術的要求也越來越高。除了IC 制造以外，納米結構在新元件上應用越來越多，特別是納米光子和納米光學。聚焦離子束（Focused Ion Beam，FIB）系統是在常規離子束和聚焦電子束系統研究的基礎上發展起來的，除具有掃描電子顯微鏡具
聚焦離子束加工中的主要缺陷
聚焦離子束(FIB)是一種微納米加工技術，其基本原理與掃描電子顯微鏡(SEM)類似，采用離子源發射的離子束經過加速聚焦后作為入射束，高能量的離子與固體表面原子碰撞的過程中可以將固體原子濺射剝離，因此，FIB更多的是被用作直接加工微納米結構的工具。結合氣體注入系統(GIS)，FIB可以輔助進行化學氣相
聚焦離子束在ITO表面缺陷的應用
1. 引言失效樣品為手機顯示屏，具體失效位置在前端IC位置，失效現象是ITO出現出現腐蝕導致顯示異常，如下圖所示，需具體分析失效的原因。?圖1.ITO表面缺陷SEM觀察圖?2. 試驗與結果?圖2.失效位置截面觀察圖圖3.正常位置截面觀察圖圖4.失效位置EDS測試譜圖圖圖5.正常位置EDS測試譜圖圖?
聚焦離子束法制備冷凍含水超薄切片
低溫電子斷層成像三維重構（cryo-ET）技術是發展結構生物學和細胞生物學重要的研究手段。該技術可以得到更真實的接近天然狀態的細胞內部高分辨率的三維結構以及蛋白質大分子定位及相互作用的信息，是蛋白質組學研究的重要輔助手段被成為“可視化蛋白質組學”（Visual Approach to Prote
牛津儀器發布新版離子束蝕刻白皮書
作為世界領先的離子束技術和系統制造商，牛津儀器等離子部的應用和技術團隊會定期發布技術白皮書，現在最新版的離子束蝕刻白皮書已經面世。 本期白皮書由公司的離子束應用技術資深專家Sebastien Pochon博士和Dave Pearson博士執筆，全面介紹了離子束蝕刻技術并闡述了其在蝕刻工
聚焦離子束顯微鏡FIB都有哪些功能？
聚焦離子束顯微鏡FIB主要用途: 芯片的電路修補、斷面切割、透射電鏡樣品制備。聚焦離子束顯微鏡FIB應用范圍: 1.定點切割 2.穿透式電子顯微鏡試片 3.IC線路修補和布局驗證 4.制程上異常觀察分析 5.晶相特性觀察分析 6.故障位置定位用被動電壓反差分析。在各類應用中，以線路修補和布局驗證這一
離子束的離子源的主要參數
①離子摻雜與離子束改性。從20世紀60年代開始，人們將一定能量的硼、磷或其他元素的離子注入到半導體材料中，形成摻雜。摻雜的深度可用改變離子的能量來控制；摻雜的濃度可通過積分離子流強度來控制。離子注入方法的重復性、可靠性比擴散法好。離子注入摻雜在半導體大規模集成電路的生產中已成為重要環節，用離子注入法
簡介離子源離子束的主要參數
①離子束流強 即能夠獲得的有用離子束的等效電流強度，用電流單位A或mA表示。 ②有用離子百分比 即有用離子束占總離子束的百分比。一般來說，離子源給出的總離子束包括單電荷離子、多電荷離子、各種分子離子和雜質元素離子等的離子束。 ③能散度 由于離子的熱運動和引出地點的不同，使得離子源給出的
XPS能譜儀氬離子束濺射技術介紹
為了清潔被污染的固體表面,在X射線光電子能譜分析中,常常利用離子槍發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面。利用離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再用XPS分析表面成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖,這是離子束最重要的應用。作為深度分析的離子槍,一般采用0.5～5 KeV的Ar
清華大學儀器共享平臺Zeiss－FIB－聚焦離子束
儀器名稱：聚焦離子束 Zeiss FIB儀器編號：16005806產地：德國生產廠家：蔡司型號：Auriga出廠日期：201506購置日期：201603樣品要求：FIB樣品要求：制備TEM樣品要求：直徑12.5mm以內，高度2mm以內，拋光級別0.5um以上。其他FIB加工要求：直徑32.5mm以內
聚焦離子束顯微鏡的基本功能
? 1. 定點切割(Precisional Cutting)-利用離子的物理碰撞來達到切割之目的。 廣泛應用于集成電路(IC)和LCD的Cross Section加工和分析。 2. 選擇性的材料蒸鍍(Selective Deposition)-以離子束的能量分解有機金屬蒸氣或氣相絕緣材料，在局部區
關于基因誘變的離子束誘變劑的介紹
離子注入是20世紀80年代初興起的一項高新技術，主要用于金屬材料表面的改性。1986年以來逐漸用于農作物育種，近年來在微生物育種中逐漸引入該技術 [2] 離子注入誘變是利用離子注入設備產生高能離子束（40~60keV）并注入生物體引起遺傳物質的永久改變，然后從變異菌株中選育優良菌株的方法。離子束
中科院688萬采購聚焦離子束刻蝕機
一、項目編號：OITC-G240320572（招標文件編號：OITC-G240320572） 二、項目名稱：中國科學院合肥物質科學研究院聚焦離子束刻蝕機采購項目 三、中標（成交）信息 供應商名稱：廣東省中科進出口有限公司 供應商地址：廣東省廣州市越秀區先烈中路100號大院9號樓102房自
清華大學儀器共享平臺Zeiss－FIB－聚焦離子束
儀器名稱：聚焦離子束 Zeiss FIB儀器編號：16005806產地：德國生產廠家：蔡司型號：Auriga出廠日期：201506購置日期：201603所屬單位：材料學院>材料中心 >電鏡中心放置地點：主樓東配樓11-112固定電話：固定手機：固定email：聯系人：王永力（010-62773015
北京埃德萬斯離子束刻蝕機共享應用
儀器名稱：離子束刻蝕機儀器編號：07001234產地：中國生產廠家：北京埃德萬斯公司型號：LKJ-ID-150出廠日期：200608購置日期：200701所屬單位：物理系>離子束刻蝕實驗室放置地點：理科樓C-207固定電話：62772764固定手機：13552113513固定email：jiangl
他為重離子束流紀錄烙上“中國印”
孫良亭 2011年，美國伯克利實驗室的一場慶祝會上，科研人員舉杯歡慶高電荷態鈾束流突破300微安的里程碑，實驗室負責人感慨這是“多年夢寐以求的結果”。作為實驗參與成員，孫良亭站在人群中，既為參與這項科研突破而激動不已，也在心中埋下一個執念——有朝一日，要在自己的國家主導創造新的紀錄。 十幾年后，