不鳴則已、一鳴驚人，國產先進光刻機問世只是時間問題
半導體產業可以說是一個國家工業的戰略高地，而光刻機又是半導體產業的基礎核心，所以美國、荷蘭、日本等國均對光刻機的出口進行了嚴格限制，要想不被“卡脖子”，只能走自主研發、自主可控的道路，對此本文將著重探討三個方面的問題，一是光刻機產業的現狀？二是當前國產光刻機技術究竟發展到了什么程度？三是國產光刻機技術距離國際先進水平到底還有多大的差距？ 技術不占先手，只能將勤補拙 盡管光刻機的地位與作用非常重要，但全球能生產光刻機的廠商卻是寥寥無幾，全球市場基本上被荷蘭阿斯麥（ASML）、日本尼康與佳能這3家企業所壟斷，這其中阿斯麥公司在光刻技術和市場份額方面一直處于遙遙領先的地位。 它是全球唯一能生產極紫外線光刻機（EUV）的企業，這種光刻機目前可以制造出5納米工藝的先進芯片，由于阿斯麥背后的兩大主要股東均為美國企業，分別為資本國際集團和黑巖集團，所以荷蘭也不得不按照美國的要求，發布了關于半導體設備出口管制的新規定。 新規重點關注......閱讀全文
光刻機的性能指標
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。 對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度
光刻機的性能指標
光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。 對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度
光刻機的定位格柵是什么
時光刻機中的一項核心技術，應用于對半導體襯底進行成像的光刻技術，主要用來確定位置。在目前高端光刻機晶圓臺的亞納米級定位需求中，光柵干涉測量具有較大優勢，測量分辨率可達17pm，長期測量穩定性可達0.22nm，采用先進的二維平面光柵可以實現空間六自由度測量，是14nm及以下光刻工藝制程的重要技術路線。
光刻機為什么不用x射線
因為x射線具有穿透力，而穿透力產生的折射會浪費大量的能量，致使光刻機效率低下，甚至無法工作，所以不用x射線。
光刻機水冷機組定時保養知識須知
按時進行光刻機水冷機組的維修保養，而對于很多企業而言，如果光刻機水冷機組缺少必要的保養與維護，意味著光刻機水冷機組后期運行故障率非常高。 在實際運行光刻機水冷機組的時候，為保持光刻機水冷機組運行靠譜與穩定，建議在使用半年時間之后，需要針對光刻機水冷機組進行面面的清洗。尤其對于容易產生積塵污垢的位
佳能PLA500光刻機共享應用
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
我國芯片行業要多久可以趕上美國？
來源：遠望智庫預見未來 軍民融合觀察 觀察者網 作者：遠方青木在芯片領域，中美差距到底有多大? 因為中國經濟起步太晚，在追趕方面我們肯定是按先易后難的順序搞的。芯片技術遵循摩爾定律，在同樣價格的前提下，每18~24個月元器件的數目就會翻一倍，也就是性能翻一倍。這恐怖的進化速度代表整個芯片產業鏈
2022年新挑戰——光刻機、網絡安全......
2月15日，中國工程院信息與電子工程學部、中國信息與電子工程科技發展戰略研究中心在京發布“中國電子信息工程科技發展十三大挑戰（2022）”。發布會由中國工程院院士、信息與電子工程學部主任盧錫城主持。 中國工程院黨組成員、副院長陳左寧院士表示，中國工程院作為中國工程科學技術界最高榮譽性、咨詢性學
新型光刻機提升微納實用制造水平
中科院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊，近日自主研制成功紫外納米壓印光刻機。該機器將新型納米壓印高分辨力光刻技術與紫外光刻技術有機結合，成本僅為國外同類設備的1/3，并在同一加工平臺上實現了微米到納米級的跨尺度圖形加工，使我國微納實用制造水平邁上新的臺階。 光刻機是實現微納圖形加工的專用高
MA6雙面光刻機共享
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
清華大學儀器共享平臺SUSS－光刻機
儀器名稱：光刻機儀器編號：20004477產地：中國生產廠家：SUSS Micro Tec Lithography Gmb型號：MJB4出廠日期：購置日期：2020-06-09所屬單位：電子系>納米光電子綜合測試平臺放置地點：羅姆樓B1-304室固定電話：62796594固定手機：固定email：h
光刻機冷卻循環裝置常見系統故障
1、回液：對于使用膨脹閥的制冷系統，回液與膨脹閥選型和使用不當密切相關。膨脹閥選型過大、過熱度設定太小、感溫包安裝方法不正確或絕熱包扎破損、膨脹閥失靈都可能造成回液。對于使用毛細管的小制冷系統而言，加液量過大會引起回液。蒸發器結霜嚴重或風扇故障時傳熱變差，未蒸發的液體會引起回液。溫度頻繁波動也會引
28納米光刻機如何生產5納米芯片
28納米光刻機作為先進半導體芯片制造中的重要設備之一，其本身的生產工藝無法支持5納米的芯片生產。但是，通過使用一系列先進的制造技術和調整設備參數等手段，可以將28納米光刻機用于5納米芯片生產。主要方法包括以下幾個方面：1. 使用多重曝光技術：將同一影像進行多次疊加曝光，在不同的位置形成復雜圖形，在提
集成電路關鍵技術迎來黃金發展期
研討會現場（主辦方供圖）8月23日，集成電路關鍵技術研討會在北京舉辦。與會專家圍繞著我國集成電路產業鏈條中的光刻機、軟硬件質量保障等集成電路關鍵技術問題進行了研討交流，以促進國內集成電路行業發展。“未來十年，集成電路關鍵技術迎來黃金發展期，機遇和挑戰并存。”此次研討會主持人、中國科學院自動化研究所高
MA6雙面光刻機共享應用
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
單面/雙面掩模對準光刻機的相關知識
單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準方式。此外，該系統還提供其他功能，包括鍵合對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速處理和重新加工，以滿足不斷變化的用戶需求，轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶，
寬刀雕細活－我國造出新式光刻機
11月29日，中科院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，這是世界上首臺用紫外光源實現了22納米分辨率的光刻機。 光刻機相當于一臺投影儀，將精細的線條圖案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但線條精細程度有極限——不能低于光波長的一半。“光太胖，門縫太窄，
極紫外線光刻機和簡介和功能
極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。 2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，預計將于2019年初交貨。 功能 光刻機（又稱曝光機）是生產大規模集成電路的核心設備
光刻機減振器突破者陳學東院士透露“成功秘訣”
“正是有了無數個一絲不茍的攻關，才促成了我國首臺IC光刻機的問世。”5月10日，華中科技大學（以下簡稱華科大）“科學家精神進校園”系列活動新聞發布會上，中國工程院院士、華科大教授陳學東在回答《中國科學報》提問時表示，科學研究往往沒有捷徑可走，重大科學技術突破靠的是對“敢為人先、勇攀高峰、一絲不茍、精
卡住中國脖子的－35－項技術最全盤點（一）
中國芯片落后么？肯定是落后，而且是全方位的落后。從設計能力到制造能力，中國目前都差一大截，尤其是制造能力，這個是事實。就像我們覺得華為中興很厲害，但是他們依賴的很多重要技術就是被包在芯片封裝里面的那些外國玩意。現代這個世界，中國不可能把所有重要領域的科技能掌握到，你再厲害也有受制于人的地方。你不惜代
對華半導體管制升級，“從1到100”國產替代在路上
近日，美國對華半導體管制升級，涉及140家中國半導體企業實體，涵蓋了制造設備、制造軟件、高性能存儲等領域。這項旨在進一步遏制中國半導體先進制程的措施，是對半導體產業的又一次打擊，短期內許多企業的經營活動受影響。然而，這對中國半導體產業來說，并不完全是一件壞事，或許會促進產業的自立自強。 四大行
接觸式光刻機在涂膠工藝上有哪些特殊之處？
2020年11月25日 17:23 ? 來源: 岱美儀器技術服務（上海）有限公司 ??>>進入該公司展臺分享：? 作為光刻工藝中zuì重要設備之一，接觸式光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高接觸式光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況是十分重要的。?
目前我國光刻機的加工精度是多少？
我們日常使用的手機里面的芯片就是光刻機制造出來的，光刻機是芯片制造過程當中一個重要的環節，光刻機直接決定著芯片的質量。而我國作為全球最大的芯片消費國之一，光每年進口的芯片都高達幾萬億人民幣。??光刻機是芯片制造過程中最重要的一部分，就是我們把想要設計的芯片，用光學技術刻在晶圓上，用光學技術把各種各樣
光刻機冷卻循環水裝置常見故障知識說明
1、制冷壓縮機內無敲擊聲，壓縮機正常運轉，膨脹閥開度調節合適，運轉中只有壓縮機吸、排氣聲，不產生敲擊或其它不正常聲響。 2、壓縮機各摩擦部位溫度正常，無激熱現象。壓縮機各摩擦部位、軸承與軸頸接觸良好，潤滑正常，不產生超過環境溫度。 3、曲軸箱油面處在正常位置，一般壓縮機曲軸箱正常油面應在視油鏡
21年來首次！佳能擴產光刻機設備！
據日經新聞報道，佳能計劃投資500億日元提高光刻機產量，將其在日本的半導體制造設備產量翻一番。報道稱，佳能將在日本東部栃木縣新建一座半導體設備廠，目標將當前產能提高一倍，總投資額超過500億日元（約3.45億美元），工廠計劃在2023年動工，2025年開始運營。光刻是半導體電路形成不可或缺的核心技術
光刻機為什么一定用紫外線
光刻機采用激光將圖形刻印在半導體上，但光是電磁波，不同的光線具有不同的波長。如果需要刻印的圖形非常微小，而采用的光線波長較大，則刻不出想要的圖形。就像你不能用拖把（書寫痕跡粗大）在田字格本上寫毛筆字（筆劃細小）。現在的芯片集成度越來越高，最高端的芯片工藝已經到了2nm級別。而可見光波長在780nm（
Karl－SussMA6雙面光刻機共享應用
儀器名稱：MA6雙面光刻機儀器編號：00011041產地：德國生產廠家：Karl Suss型號：MA6出廠日期：199907購置日期：200010所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-6278
光電所研制出實用深紫外光刻機
近日，中國科學院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊研制成功波長254nm的實用深紫外光刻機（Mask aligner），光刻分辨力達到500nm。 Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最廣、使用數量最多的一種光刻設備。在現有的微納加工工藝中，光刻所采用的波段是決定
清華大學歷經10年，光刻機領域《自然》發文
在芯片制造業中，光刻機是必不可少的精密設備——每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術的鍛造。也正因為此，與之相關的突破性研究成果備受關注。 2月25日，清華大學的一項科研成果刊登在《自然》上，引起了國內外學術界及產業界的高度關注。《自然》評閱人認為其“展示了一種新的方法論”，“必將引起粒子加速器和
工業光刻機冷卻系統冷水機開機停機事項
一、光刻機冷卻系統冷水機的使用注意事項： 1）光刻機冷卻系統冷水機組的正常開、停機須嚴格按照光刻機冷卻系統冷水機廠家提供的操作說明書的步聚進行操作。 2）機組在運行過程中，應及時、正確地做好參數的記錄工作，如出現報警停機，應及時通知相關人員對機組進行檢查，如無法排除故障，可以直接與光刻機冷卻系