永新光學：光學產品助力光通訊、半導體晶圓及集成電路檢測
永新光學11月13日在互動平臺表示，目前公司生產的光刻鏡頭可應用于PCB光刻設備。此外，公司生產的光學顯微鏡及光學元組件可用于光通訊、半導體晶圓及集成電路的檢測等領域。永新光學： 永新光學股份有限公司成立于1997年，其子公司南京江南永新光學有限公司最早成立于1943年。公司是一家精密光學儀器及核心光學部件的制造商，也是國家級高新技術企業。 公司主要在寧波、南京等地建有制造基地，占地12萬平方米，并擁有約1200名員工。它是中國儀器儀表行業協會的副理事長單位，也是光學儀器分會的理事長單位，主導著ISO顯微鏡國際標準的制定。 永新光學致力于生命科學、AI智慧醫療和工業檢測領域的科學儀器國產化替代，為物聯網、自動駕駛、工業自動化、人工智能和專業影像設備等產業提供核心光學部件。公司年產10余萬臺光學顯微鏡和數千萬件光學元件組件，是徠卡相機、德國蔡司、日本尼康等國際知名企業的核心供應商。......閱讀全文
永新光學：光學產品助力光通訊、半導體晶圓及集成電路檢測
永新光學11月13日在互動平臺表示，目前公司生產的光刻鏡頭可應用于PCB光刻設備。此外，公司生產的光學顯微鏡及光學元組件可用于光通訊、半導體晶圓及集成電路的檢測等領域。永新光學： 永新光學股份有限公司成立于1997年，其子公司南京江南永新光學有限公司最早成立于1943年。公司是一家精密光學儀器
光刻機怎么制作
第一步：制作光刻掩膜版（Mask Reticle）芯片設計師將CPU的功能、結構設計圖繪制完畢之后，就可將這張包含了CPU功能模塊、電路系統等物理結構的“地圖”繪制在“印刷母板”上，供批量生產了。這一步驟就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版：（又稱光罩，簡稱掩膜版），是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖
惠民生，促經濟！2021年這些分析領域關稅發生變革
部分信息技術產品最惠國稅率表#aabbccdd2 td{border:1px solid #66666;} #aabbccdd2 td{border:1px solid #666666}序號稅則號列信息技術產品名稱2021年1月1日至 6月30日最惠國稅率（%）2021年7月1日至 12月31日最惠
一文讀懂半導體制程技術進步的“燃料”——光刻膠
一文讀懂半導體制程技術進步的“燃料”——光刻膠 光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據
光刻機的概述
光刻機（Mask Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大
什么是光刻機
光刻機（Mask?Aligner）是制造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。其分為兩種，一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；另一種是利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。高端光刻機被稱為“現代光學工業之花”，制造難度很大，全
七大芯片材料超全解析來襲，帶您進一步了解半導體材料
材料和設備是半導體產業的基石，一代技術依賴于一代工藝，一代工藝依賴一代材料和設備來實現。 半導體材料處于整個半導體產業鏈的上游環節，對半導體產業發展起著重要支撐作用，具有產業規模大、細分行業多、技術門檻高、研發投入大、研發周期長等特點。 半導體材料行業又因其具有極大的附加值和特有的產業生態支
極紫外光刻新技術問世
據日本沖繩科學技術大學院大學（OIST）官網最新報告，該校設計了一種極紫外（EUV）光刻技術，超越了半導體制造業的標準界限。基于此設計的光刻設備可采用更小的EUV光源，其功耗還不到傳統EUV光刻機的十分之一，從而降低成本并大幅提高機器的可靠性和使用壽命。 在傳統光學系統中，例如照相機、望遠鏡和
2024中國上海國際集成電路與半導體產業展覽會_材料_制造_
上海半導體展，半導體產業展，半導體設備展，上海半導體設備展，上海半導體產業展，上海集成電路展，集成電路展2024上海國際半導體產業展覽會時間：2024年11月18-20日??參展咨詢：021-5416 3212大會負責人：李經理 136 5198 3978地點：上海新國際博覽中心展會介紹：2024上
2024半導體展｜2024上海國際半導體封裝測試展覽會「半導體展會」
上海半導體展，半導體產業展，半導體設備展，上海半導體設備展，上海半導體產業展，上海集成電路展，集成電路展2024上海國際半導體產業展覽會時間：2024年11月18-20日??參展咨詢：021-5416 3212大會負責人：李經理 136 5198 3978地點：上海新國際博覽中心展會介紹：2024上
「半導體展會」2024上海國際半導體技術設備展覽會官網
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天天都在說的芯片，到底是什么？
假設一百年或者幾百年之后，回顧2018年到2019年的大國關系，未來的人們可能發明一個新詞，或許就叫做芯片戰爭。雖然這種戰爭暫時還沒聽到槍炮聲響和看到硝煙，但是對未來世界格局的深遠影響，可能不亞于一場次級別的世界大戰。這是因為圍繞芯片這種國際商品而產生的交易額，是當今全球原油交易市場總額的數
永新光學毛磊：追光之志，無遠弗屆
清秋的早晨，寧波永新光學股份有限公司的辦公樓披著柔和的霞光，總經理毛磊像往常一樣早早來到辦公室，與往日不同的是這一天他要接待日本尼康的執行董事。“尼康和我們南京子公司合作25年了，這是尼康高層第一次來寧波總公司訪問，希望和我們在高端儀器領域有進一步合作。”回憶起初識尼康團隊時的情境，喚醒了毛磊不一樣
5nm是物理極限－芯片發展將就此結束？（二）
有外媒報道的勞倫斯伯克利國家實驗室將現有最精尖的晶體管制程從14nm縮減到了1nm，其晶體管就是由碳納米管摻雜二硫化鉬制作而成。不過這一技術成果僅僅處于實驗室技術突破的階段，目前還沒有商業化量產的能力。至于該項技術將來是否會成為主流商用技術，還有待時間檢驗。再來說說光刻機分辨率的事要想做出更
什么是散射儀？
使用光學的辦法來測量光刻膠圖形的線寬等幾何尺寸的儀器稱為散射儀。散射儀（scattermetry）的工作原理是：一束光入射在晶圓表面，晶圓表面的光刻膠圖形對入射光產生散射和衍射，這些含有表面結構信息的光被探測儀接收。對探測儀器接收的信號做分析，得到晶圓表面光刻膠圖形的三維尺寸。
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
光刻技術與納米光刻簡介
距離理查德·菲利普斯·費曼著名的演講“There’s plenty of room at the bottom”有將近60年歷史。在他的論文中，他曾問到：“我們怎么樣寫小？”在今天的科學技術研究中，仍有同樣的問題。雖然自上世紀60年代以來，科研技術已經大大進步，半導體行業中使用的線寬已經大幅度下
超聲掃描顯微鏡的相關特色到底在哪里
關于超聲掃描顯微鏡，可以說超聲掃描顯微鏡是一種離線的檢測分析設備，可以說超聲掃描顯微鏡擁有自主知識產權，創新是企業發展的必由之路。在國內半導體專用設備領域憑借自身多年的技術積累，不斷創新，在多年積淀的技術基礎上，四十五所厚積薄發，半導體專用設備領域都有新品推出，SSJ-100超聲掃描顯微鏡就是其中之
超5.2億元，武漢大學2025年儀器采購意向
近期，武漢大學連續發布9項儀器采購意向，預算金額高達52148.19萬元。涉及儀器設備包括數字PCR儀、磁性細胞分選儀、細胞能量代謝分析儀、真空納米壓印設備、皮秒相干反斯托克斯拉曼光譜儀、超高效液相色譜-質譜聯用儀、超高速離心機等。預計采購時間2025年4月~6月。 采購意向只是政府采購的初步
上海微系統所等晶圓級高精度瞬態生物光刻研究獲進展
近日，中國科學院上海微系統所傳感技術國家重點實驗室陶虎課題組，聯合復旦大學附屬華山醫院神經外科、江蘇科技大學蠶業研究所等研究機構的科研人員，開發出對紫外光敏感且分子量均一的蠶絲蛋白輕鏈溶液，并基于該溶液，結合傳統紫外光刻工藝，實現了晶圓級高精度綠色瞬態生物光刻。相關成果以Precise Prot
散射儀的工作原理簡介
由于散射儀是使用光學的辦法來測量光刻膠圖形的線寬等幾何尺寸，因此，又被稱為光學CD測量。使用散射儀來測量光刻膠圖形線寬的努力早在21世紀初期就開始，但是，一直到28nm技術節點以后才開始受到廣泛的關注，這是因為CD-SEM測量導致的光刻膠損失效應在28nm以下再也不能忽略了，而且，光學CD測量還
島津半導體領域全面解決方案，助力中國“芯”未來
導讀近年來，國內芯片生產力呈爆發式增長。據海關總署數據顯示：2024年前七個月，中國芯片出口總額達到6409.1億元，超過汽車、手機、家電等傳統出口項目，僅次于船舶，是國內第二大出口產業。更為重要的是，在7nm以上芯片上，國內已經形成了完整的產業鏈和配套設施，芯片產業的自給率從十年前的不足10%，提
熱點回應丨冷凍電鏡如何“跨界”助力芯片光刻取得新突破
光刻技術是推動芯片制程工藝持續微縮的核心驅動力之一。近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及其合作者在《自然-通訊》上披露了他們的新發現。該團隊通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態下解析了光刻膠分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發出可顯著減少光刻缺陷的產業化方
華中科大發表光學晶圓缺陷檢測領域系統綜述
受SCIE期刊《極端制造》極端制造編輯部邀請，華中科技大學教授劉世元團隊近日在該刊上發表了《10nm及以下技術節點晶圓缺陷光學檢測》的綜述文章，對過去十年中與光學晶圓缺陷檢測技術有關的新興研究內容進行了全面回顧。 隨著智能終端、無線通信與網絡基礎設施、智能駕駛、云計算、
華中科大發表光學晶圓缺陷檢測領域系統綜述
受SCIE期刊《極端制造》極端制造編輯部邀請，華中科技大學教授劉世元團隊近日在該刊上發表了《10nm及以下技術節點晶圓缺陷光學檢測》的綜述文章，對過去十年中與光學晶圓缺陷檢測技術有關的新興研究內容進行了全面回顧。 隨著智能終端、無線通信與網絡基礎設施、智能駕駛、云計算、智慧醫療等產業的蓬勃發展
華中科大發表光學晶圓缺陷檢測領域系統綜述
受SCIE期刊《極端制造》極端制造編輯部邀請，華中科技大學教授劉世元團隊近日在該刊上發表了《10nm及以下技術節點晶圓缺陷光學檢測》的綜述文章，對過去十年中與光學晶圓缺陷檢測技術有關的新興研究內容進行了全面回顧。 隨著智能終端、無線通信與網絡基礎設施、智能駕駛、云計算、
涂膠顯影設備的前景
涂膠顯影設備是芯片制程中必不可少的處理設備，利用機械手實現晶圓在各系統間的傳輸和加工，與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為光刻機的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影，涂膠顯影機的性能不僅對細微曝光處的形成造成直接影響，而且其顯影工藝的圖形質量和誤差
2024北京半導體展覽會:聚焦全球半導體產業「點擊咨詢」
?2024年北京國際半導體測試與封裝設備展覽會（IC CHINA）時 間：2024 年 9 月 5 一 7 日地 點：中國·北京 · 北人亦創國際會展中心參展咨詢：021-5416 3212大會負責人：李經理 136 5198 3978（同微）北京國際半導體測試與封裝設備展覽會（IC CHINA）創
2024北京半導體展|2024第18屆北京半導體展覽會「點擊咨詢」
?2024年北京國際半導體測試與封裝設備展覽會（IC CHINA）時 間：2024 年 9 月 5 一 7 日地 點：中國·北京 · 北人亦創國際會展中心參展咨詢：021-5416 3212大會負責人：李經理 136 5198 3978（同微）北京國際半導體測試與封裝設備展覽會（IC CHINA）創