分子“模板”可控制合成材料的形狀
據美國物理學家組織網11月16日報道，美國科學家研制出了一種新的材料合成方法，可以更好地控制合成材料的幾何形狀和化學成分。使用這種方法合成的新材料如能很好地結合無機材料的功能，將有望用于制造新一代太陽能電池、催化劑以及光子晶體。 美國能源部下屬阿貢國家實驗室納米尺度材料和能源系統分部的化學家杰夫·伊拉姆和納米科學家賽思·達寧開發出了一種名為“連續滲透合成(SIS)”的技術，使用該技術，科學家可以用一塊由嵌段共聚物大分子組成的薄膜作為模板，制造出具有各種形狀和圖案的材料。 這種新方法是原子層沉積(ALD)技術的擴展，ALD是阿貢國家實驗室科學家廣泛使用的一種材料合成技術，可以將物質以單原子膜的形式一層一層地鍍在基底表面。而SIS不需要像ALD那樣層層鋪設不同納米材料組成的薄膜，只需使用嵌段共聚物作為基座即可。 達寧表示，這種新方法可制造出僅由ALD技術或嵌段共聚物無法制造出的材料，也可更好地控制所制造材料的幾......閱讀全文
原子層沉積系統（ALD）的應用
原子層沉積技術由于其沉積參數的高度可控型（厚度、成份和結構） 原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD），最初稱為原子層外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也稱為原子層化學氣相沉積（Atomic Layer Chemical Vapor Depo
原子層沉積系統（ALD）的介紹
是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
原子層沉積系統（ALD）的原理
原子層沉積是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現原子層
分子“模板”可控制合成材料的形狀
據美國物理學家組織網11月16日報道，美國科學家研制出了一種新的材料合成方法，可以更好地控制合成材料的幾何形狀和化學成分。使用這種方法合成的新材料如能很好地結合無機材料的功能，將有望用于制造新一代太陽能電池、催化劑以及光子晶體。 美國能源部下屬阿貢國家實驗室納米尺度材料和能源系統分部的化學
對于原子層沉積系統（ALD）的研究
原子層沉積（ALD）的自限制性和互補性致使該技術對薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制備的薄膜保形性好、純度高且均勻，因而引起了人們廣泛的關注。原子尺度上的ALD過程仿真對深入了解沉積機理，改進和優化薄膜生長工藝，提高薄膜質量，改善薄膜性質具有重要意義。在深入了解ALD的工藝特點及工藝過程后
原子層沉積系統（ALD）－跟熱蒸鍍沉積有什么區別？
原子層沉積是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應器并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。在前驅體脈沖之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現原子層
發表嵌段共聚物引導組裝研究綜述
近日，中科院長春應用化學研究所生態環境高分子材料重點實驗室季生象課題組應邀撰寫的綜述在《聚合科學進展》發表。 該綜述對嵌段共聚物在化學圖案上引導組裝的原理、流程和技術手段，及其在半導體行業的應用進行了全面總結和評述，并對嵌段共聚物引導組裝的未來發展前景進行了展望，便于讀者快速全面地了解該研究領
嵌段共聚物納米膜能過濾水中細菌
據美國物理學家組織網近日報道，美國科學家使用嵌段共聚物合成出一種新式的納米膜，該膜可過濾掉飲用水中的細菌。科學家認為，這種納米膜或可解決一個多年懸而未決的全球健康問題：如何將細菌從飲用水中隔離開。該研究發表在《納米快報》雜志上。 水分子和細菌非常微小，人的裸眼無法看到，科學
原子層沉積
原子層沉積(ALD)是一種真正的"納米"技術，以精確控制的方式沉積幾個納米的超薄薄膜。 原子層沉積的兩個限定性特征--自約束的原子逐層生長和高度保形鍍膜--給半導體工程，微機電系統和其他納米技術應用提供了許多好處。 原子層沉積的優點 因為原子層沉積工藝在每個周期內精確地沉積一個原子層，所以能
ald－工藝－怎么保證－單個原子沉積
原子層沉積（Atomic layer deposition)是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。單原子層沉積（atomic layer
長春應化所發表嵌段共聚物引導組裝研究綜述
近日，中國科學院長春應用化學研究所生態環境高分子材料重點實驗室季生象課題組應邀撰寫的題為Directed self-assembly of block copolymers on chemical patterns: A platform for nanofabrication 的綜述在Prog
原子層沉積的研究
原子層沉積（ALD）的自限制性和互補性致使該技術對薄膜的成份和厚度具有出色的控制能力，所制備的薄膜保形性好、純度高且均勻，因而引起了人們廣泛的關注。原子尺度上的ALD過程仿真對深入了解沉積機理，改進和優化薄膜生長工藝，提高薄膜質量，改善薄膜性質具有重要意義。在深入了解ALD的工藝特點及工藝過程后，針
化學所在嵌段共聚物自組裝形貌調控研究方面取得進展
嵌段聚合物可以自發組裝為尺寸周期低于100nm以下的納米結構，進而作為制備具有特定納米結構材料的模板。嵌段共聚物尺寸小且有高產易得的優異特點，使其得到了廣泛的關注和研究。基于嵌段聚合物的納米刻蝕技術被認為是最重要的下一代刻蝕技術之一。為了實現納米刻蝕技術的應用，需要解決嵌段聚合物滿足垂直取向形貌
化學所在嵌段共聚物自組裝形貌調控研究方面取得進展
嵌段聚合物可以自發組裝為尺寸周期低于100nm以下的納米結構，進而作為制備具有特定納米結構材料的模板。嵌段共聚物尺寸小且有高產易得的優異特點，使其得到了廣泛的關注和研究。基于嵌段聚合物的納米刻蝕技術被認為是最重要的下一代刻蝕技術之一。為了實現納米刻蝕技術的應用，需要解決嵌段聚合物滿足垂直取向形貌
嵌段共聚物穩定的鹵化鉛鈣鈦礦納米線｜Nano－Research
基于鹵化鉛鈣鈦礦(LHPs)的太陽能電池的迅速發展，促使其他密切相關領域的研究十分活躍。這種材料的膠體納米結構顯示出優越的光電性能。特別是一維LHPs納米線在高度定向時表現出各向異性的光學特性。然而，由于它們的離子特性，對外界環境非常敏感，限制了它們的大規模實際應用。加州大學伯克利分校A. Pa
Nano－Research－｜嵌段共聚物穩定的鹵化鉛鈣鈦礦納米線
基于鹵化鉛鈣鈦礦(LHPs)的太陽能電池的迅速發展，促使其他密切相關領域的研究十分活躍。這種材料的膠體納米結構顯示出優越的光電性能。特別是一維LHPs納米線在高度定向時表現出各向異性的光學特性。然而，由于它們的離子特性，對外界環境非常敏感，限制了它們的大規模實際應用。加州大學伯克利分校A. Pa
精確測定生物三嵌段共聚物在不同溫度下的粘度
介紹粘度是流體粘滯性的一種量度，是流體流動力對其內部摩擦現象的一種表示。但是對于許多實驗室而言，傳統的流變性測量設備操作耗時或者無法在所需的條件下進行測試。FLUIDICAM RHEO 流動運動粘度儀采用新的流變測試技術，只需簡單的設置即可測量流體在不同溫度下粘度隨剪切速率的變化。多嵌段共聚物由
PICOSUN－原子層沉積系統共享
儀器名稱：PICOSUN 原子層沉積系統儀器編號：16041497產地：中國生產廠家：PICOSUN型號：R200 Advanced出廠日期：201709購置日期：201612所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一樓109固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹
嵌段共聚物/均聚物共混物自組裝研究取得新進展
不同體積比的苯/N-甲基吡咯烷酮混合蒸汽處理后PS-b-P4VP/POAA薄膜共混物有序微相分離結構的形成 中國科學院蘭州化學物理研究所先進潤滑與防護材料研發中心在嵌段共聚物/均聚物共混物自組裝方面取得新進展。 研究人員使用溶劑處理方法實現了嵌段共聚物（PS-b-P4VP）/均聚
PICOSUN－原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：PICOSUN 原子層沉積系統儀器編號：16041497產地：中國生產廠家：PICOSUN型號：R200 Advanced出廠日期：201709購置日期：201612所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一樓109固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹
BENEQ－原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：BENEQ 原子層沉積系統儀器編號：09016504產地：芬蘭生產廠家：BENEQ型號：TFS200-106出廠日期：200810購置日期：200910所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝放置地點：微電子所新所一層微納平臺固定電話：固定手機：固定email：聯系人：曹秉軍（010
原子層沉積技術可用于合金提升態密度有效質量
中國科學院院士、西安交通大學材料學院材料強度組孫軍教授，材料強度組丁向東教授、武海軍教授與深圳大學合作，在探究相界面工程作用于ZrNiSn基半哈斯勒熱電材料取得進展。該工作鑒于現有研究中相界面引發的載流子遷移率降低問題，以及單一能量勢壘無法在全溫度范圍內提升態密度有效質量的局限性，團隊創新性地將原子
原子層沉積技術開發者獲2018年“千年技術獎”
?? 芬蘭技術學會２２日宣布，將２０１８年“千年技術獎”授予芬蘭物理學家圖奧莫·松托拉，以表彰他研發了在信息技術領域發揮重要作用的原子層沉積技術。 原子層沉積技術可以將物質以單原子膜形式一層一層鍍在基底表面，在許多高科技領域發揮著重要作用。目前，所有的計算機和智能手機都使用以原子層沉積技術制成的
科學家用“電噴”打印打出三維超精細結構
據物理學家組織網近日報道，一個來自美國伊利諾斯大學厄本納-香檳分校、芝加哥大學、韓國漢陽大學等的科研小組開發出一種制作納米結構的新方法，將 “從上到下”的噴墨打印和“從下到上”的自組裝技術結合在一起，以一種“電噴”打印方式自動形成三維的超精細結構，所造出的納米材料可用在半導體和磁存儲工業中。
清華大學儀器共享平臺Ultratech－原子層沉積系統
儀器名稱：原子層沉積系統儀器編號：17016605產地：美國生產廠家：Ultratech型號：Savannah S100出廠日期：購置日期：2017-06-25所屬單位：電子系>納米光電子綜合測試平臺放置地點：羅姆樓B1-304室固定電話：62796594固定手機：固定email：haosun@ts
Picosun－Oy真空互聯原子層沉積系統共享應用
儀器名稱：真空互聯-原子層沉積系統儀器編號：21029113產地：芬蘭生產廠家：Picosun Oy型號：R-200 Advanced出廠日期：購置日期：2021-11-25所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>真空互聯放置地點：微電子學研究所南平房實驗室108號固定電話：01062784044固定
兩親性三嵌段共聚物紫杉醇鍵合藥及其合成方法獲ZL授權
由中科院長春應用化學研究所景遐斌研究員等科研人員發明的“兩親性三嵌段共聚物-紫杉醇鍵合藥及其合成方法”，近日獲得國家發明ZL授權（ZL號: CN1840199）。 癌癥是現代發病率和死亡率最高的疾病之一，嚴重危害人們的身體健康和生命。紫杉醇作為公認的一線腫瘤化療
微電子所采用ALD技術顯著提升發光器件效率
日前，中國科學院微電子研究所將先進的原子層沉積技術應用于高光效半導體發光器件的研究取得顯著進展。 上世紀80年代，原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)最初由芬蘭科學家提出并應用于平板顯示器件中Al2O3絕緣膜的沉積。2007年英特爾公司將原子層沉積技術引
芬蘭PICOSUN公司將在波士頓舉行原子層沉積系統展覽
歡迎您參加2011年6月27-29在波士頓舉行的芬蘭PICOSUN公司的原子層沉積系統展覽。具體內容如下： Thanks to our excellent ALD systems, we are happy report profitable 100% growth during th
新式大塊共聚物太陽能電池問世
據物理學家組織網5月29日報道，美國萊斯大學的化學工程師拉斐爾·維爾杜茲寇和賓夕法尼亞州立大學的化學工程師安立奎·戈麥斯領導的研究團隊，研制出了一款基于大塊共聚物(能自我組裝的有機材料可以自主形成不同的層)的太陽能電池，盡管新電池的光電轉化效率僅為3%，但仍然高于其他用聚合物作為活性材料的電池。