激發X射線熒光分析法的概念
當α 、β、γ或X射線作用于樣品時，由于庫侖散射，軌道電子吸收其部分動能，使原子處于激發狀態。由激發態返回基態時發射特征X射線，根據此特征X射線的能量和強度來分析元素的種類和含量。其靈敏度很高，用途很廣。......閱讀全文
激發X射線熒光分析法的概念
當α 、β、γ或X射線作用于樣品時，由于庫侖散射，軌道電子吸收其部分動能，使原子處于激發狀態。由激發態返回基態時發射特征X射線，根據此特征X射線的能量和強度來分析元素的種類和含量。其靈敏度很高，用途很廣。
質子激發X射線熒光分析的X－射線譜
在質子X 射線熒光分析中所測得的X 射線譜是由連續本底譜和特征X 射線譜合成的疊加譜。樣品中一般含有多種元素，各元素都發射一組特征X 射線譜，能量相同或相近的譜峰疊加在一起，直觀辨認譜峰相當困難，需要通過復雜的數學處理來分解X 射線譜。解譜包括本底的扣除、譜的平滑處理、找峰和定峰位、求峰的半高寬
X射線熒光分析法
原子發射與原子吸收光譜法是利用原子的價電子激發產生的特征光譜及其強度進行分析。?X-?射線熒光分析法則是利用原子內層電子的躍遷來進行分析。?X?射線是倫琴于?1895?年發現的一種電磁輻射，其波長為?0.01?～?10nm。在真空管內用電加熱燈絲（鎢絲陰極）產生大量熱電子，熱電子被高壓（萬伏）加速撞
質子激發X射線熒光分析的簡介
利用原子受質子激發后產生的特征 X射線的能量和強度來進行物質定性和定量分析的方法。簡稱質子 X射線熒光分析，英文縮寫為PIXE。質子X 射線熒光分析是20 世紀70 年代發展起來的一種多元素微量分析技術，其分析靈敏度可達10-16 克，相對靈敏度可達10-6～10-7 克/克。原則上可分析原子序
X射線熒光分析法簡介
X射線熒光分析法（X-ray fluorescence analysis），是對固體或液體試樣進行化學分析的一種非破壞性物理分析法。試樣在強X射線束照射下產生的熒光X射線被已知高點陣間距的晶體衍射而取得熒光X射線光譜。這種譜線的波長是試樣中元素定性分析的依據；譜線的強度是定量分析的依據。
X射線熒光分析法的應用
X射線熒光分析法用于物質成分分析，檢出限一般可達3-10～10-6克/克(g/g)，對許多元素可測到10-7～10-9g/g，用質子激發時 ，檢出可達10-12g/g；強度測量的再現性好；便于進行無損分析；分析速度快；應用范圍廣，分析范圍包括原子序數Z≥3的所有元素。除用于物質成分分析外，還可用
X射線熒光分析法的簡介
中文名稱X射線熒光分析法英文名稱X-ray fluorescence analysis定 義對固體或液體試樣進行化學分析的一種非破壞性物理分析法。試樣在強X射線束照射下產生的熒光X射線被已知高點陣間距的晶體衍射而取得熒光X射線光譜。這種譜線的波長是試樣中元素定性分析的依據；譜線的強度是定量分析的依
質子激發X射線熒光分析的實驗裝置
質子X 射線熒光分析的主要實驗裝置包括： ①加速器，一般用質子靜電加速器，選用能量為1～3 兆電子伏的質子，在此能量范圍內，質子激發X射線的產額高，靈敏度高；質子的能量再高時，將會引起許多核反應，使本底增大；能量再低時，質子的穿透能力下降，只能用于表面分析。②靶室（或稱散射室），是分析樣品放置
簡述質子激發X射線熒光分析的原理
基本原理是用高速質子照射樣品，質子與樣品中的原子發生庫侖散射。原子內層電子按一定幾率被撞出內殼層，留下空穴，較外層電子向這個空穴躍遷時發射出特征X 射線。用探測儀器探測和記錄這些特征X 射線譜，根據特征X 射線的能量可定性地判斷樣品中所含元素的種類，根據譜線的強度可計算出所測元素的含量。
X射線熒光光譜的概念
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光分析法的未來展望
X射線熒光分析法同其他分析技術一樣，不是完美無缺的。在物質成分分析中，它對一些最輕元素（Z≤8）的測定還不完全成熟，只能是屬于初期應用的階段。常規分析中某些元素的測定靈敏度不如原子發射光譜法高（采用同步輻射和質子激發的X射線熒光分析除外），根據各個工業部門生產自動化的要求（例如選礦流程中的自動控
X射線熒光分析法的應用特點
X射線熒光分析法用于物質成分分析，檢出限一般可達3-10～10-6克/克(g/g)，對許多元素可測到10-7～10-9g/g，用質子激發時 ，檢出可達10-12g/g；強度測量的再現性好；便于進行無損分析；分析速度快；應用范圍廣，分析范圍包括原子序數Z≥3的所有元素。除用于物質成分分析外，還可用于原
質子激發X射線熒光分析的非真空分析技術
質子X 射線熒光分析一般在真空中照射樣品（稱作真空分析或內束技術），但也發展了一種非真空分析技術（或稱外束技術），即將質子束從真空室中引出，在空氣（或氦氣）中轟擊樣品。真空分析可能引起厚樣品積累正電荷（質子電荷）而吸引周圍電子，造成本底增高。非真空分析由于樣品周圍空氣電離而有導電性，可消除電荷積
X射線管激發X熒光光譜連續本底扣除方法研究
X射線管是目前X射線熒光光譜分析中最常采用的激發源,它所產生的原級譜成為了X熒光光譜中本底成分的主要來源,在對這種光譜進行進一步的分析處理之前需要對其本底進行扣除,對本底估計的準確性直接影響后續處理步驟的效果。對射線管激發X熒光光譜的成分進行了分析,針對其本底特點構造了一種本底強度的估計方法,并根據
X射線熒光光譜分析法
利用原級 X射線光子或其他微觀粒子激發待測物質中的原子,使之產生熒光（次級X射線）而進行物質成分分析和化學態研究的方法。在成分分析方面,X射線熒光光譜分析法是現代常規分析中的一種重要方法。 簡史 20世紀20年代瑞典的G.C.de赫維西和R.格洛克爾曾先后試圖應用此法從事定量分析，但由于當時記錄
X射線熒光分析法的基本信息介紹
X射線熒光分析法（X-ray fluorescence analysis），是對固體或液體試樣進行化學分析的一種非破壞性物理分析法。試樣在強X射線束照射下產生的熒光X射線被已知高點陣間距的晶體衍射而取得熒光X射線光譜。這種譜線的波長是試樣中元素定性分析的依據；譜線的強度是定量分析的依據。
X射線熒光分析法的特點與適應范圍
（1）適應范圍廣 除了H，He，Li，Be外，可對周期表中從5B到92U作元素的常量、微量的定性和定量分析。 （2）操作快速方便 在短時間內可同時完成多種元素的分析。 （3）不受試樣形狀和大小的限制，不破壞試樣，分析的試樣應該均勻。 （4）靈敏度偏低 一般只能分析含量大于0.01%的
X射線熒光分析法的特點與適應范圍
(1)適應范圍廣 除了H，He，Li，Be外，可對周期表中從5B到92U作元素的常量、微量的定性和定量分析。 (2)操作快速方便 在短時間內可同時完成多種元素的分析。 (3)不受試樣形狀和大小的限制，不破壞試樣，分析的試樣應該均勻。 (4)靈敏度偏低 一般只能分析含量大于0.01%的
X射線熒光光譜儀的吸收與激發效應
對一給定元素的某一吸收限的短波側，質量衰減系數pm迅速地隨著波長λ的增加而變大，根據式μm=Kλm及勒魯的研究結果，對于若干主要譜系，在0.18-10A的波段，λ的冪值m變化在2.1~2.8之間。因此越是接近吸收限短波側的譜線，所受的吸收或衰減就越大。而且，對一譜系，由于km隨的變化是連續的，故
X射線熒光光譜分析法的簡介
X射線熒光光譜分析法，利用原級X射線光子或其他微觀粒子激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線）而進行物質成分分析和化學態研究的方法。 [1] 在成分分析方面，X射線熒光光譜分析法是現代常規分析中的一種重要方法。
X射線熒光光譜分析法的特點
(1）分析速度快。 (2）X射線熒光光譜跟樣品的化學結合狀態及物理狀態無關。 (3）非破壞分析。 (4）X射線熒光分析是一種物理分析方法，所以對化學性質上屬于同一族的元素也能進行分析。 (5）分析精密度高。 (6) X射線光譜比發射光譜簡單,故易于解析。 (7）制樣簡單。 (8）X射線
x射線測厚儀概念
X射線測厚儀工作原理、結構特性:? X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料時，X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性，從而測定材料的厚度，是一種非接觸式的動態計量儀器。它以PLC和工業計算機為核心，采集計算數據并輸出目標偏差值給軋機厚度控制系統，已達到要求的軋制厚度. ? 適用范圍：生產鋁板、銅板
X射線熒光光譜儀的吸收與激發(增強)效應
① 原級入射線進人樣品時所受的吸收效應； ② 熒光譜線出射時受樣品的吸收或分析元素受樣品中其它元素的激發效應； ③ 第三級的激發效應。 以上各級吸收和激發效應，都隨著樣品基體化學組成的差異而發生變化。
X射線熒光（XRF）：理解特征X射線
什么是XRF？ X射線熒光定義：由高能X射線或伽馬射線轟擊激發材料所發出次級（或熒光）X射線。這種現象廣泛應用于元素分析。 XRF如何工作？ 當高能光子（X射線或伽馬射線）被原子吸收，內層電子被激發出來，變成“光電子”，形成空穴，原子處于激發態。外層電子向內層躍遷，發射出能量等于兩級能
X射線分析法的簡介
中文名稱X射線分析法英文名稱X-ray analysis定 義測量試樣在各種條件下所發射的特征X射線，或者是測定試樣的X射線衍射圖形，包括X射線衍射分析法、發射X射線譜法和吸收X射線譜法三類。應用學科機械工程（一級學科），分析儀器（二級學科），能譜和射線分析儀器-能譜和射線分析儀器分析原理（三級學
利用X射線熒光分析法分析質量和干擾源
如今，化學和醫藥產品的質量穩定有著非常重要的意義。一些干擾性的影響因素，例如生產設備中出現有害沉積物，不僅會影響產品質量，還會損壞生產設備的零部件。而在現代化分析技術的幫助下，用戶在幾分鐘內即可完成故障的分析診斷。 在流程工藝設備中總是不斷出現由有害沉積物在生產設備中的沉積而帶來的故障和干
關于環境分析方法——X射線熒光分析法的介紹
X射線熒光分析的基本原理是以高能X射線（一次X射線）轟擊樣品，將待測元素原子內殼層的電子逐出，使原子處于受激狀態，10-12～10-15秒后，原子內的原子重新配位，內層電子的空位由較外層的電子補充，同時放射出特征X射線（二次X射線）。特征X射線波長λ和原子序數Z有一定關系：λ ∝1/Z2。測定這
電子激發X熒光分析的介紹
電子激發X熒光分析的軔致輻射本底比PIXE高二個量級以上，因此分析靈敏度低得多。但是，用聚焦的電子束激發樣品表面1微米的區域,使產生元素的特征X 射線，可以觀察樣品表面組成的局部變化。用這種方法能測定合金、礦物、陶瓷等樣品中的夾雜物和析出物，決定合金元素的局部富集區等。
熒光分析法的概念
熒光分析法是一種利用某些物質的熒光光譜特性來進行定性、定量的分析方法。一般所說的熒光分析法，是指以紫外或可見光作為激發光源，所發射的熒先波長較激發光波長要長的分子熒充分析法。
熒光分析法的概念
熒光分析法是指利用某些物質被紫外光照射后處于激發態，激發態分子經歷一個碰撞及發射的去激發過程所發生的能反映出該物質特性的熒光，可以進行定性或定量分析的方法。由于有些物質本身不發射熒光（或熒光很弱），這就需要把不發射熒光的物質轉化成能發射熒光的物質。例如用某些試劑（如熒光染料），使其與不發射熒光的物質